摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6页 |
第一章 绪论 | 第9-19页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 半导体光催化的基本原理 | 第10-11页 |
1.3 半导体复合材料的研究阶段与成果 | 第11-14页 |
1.3.1 MoS_2与(001)TiO_2复合 | 第12-13页 |
1.3.2 WS_2与(001)TiO_2复合 | 第13-14页 |
1.4 TiO2的化学合成方法 | 第14-16页 |
1.4.1 气相沉积法 | 第14页 |
1.4.2 液相法 | 第14-16页 |
1.4.3 固相法 | 第16页 |
1.4.4 简述{001}暴露面TiO_2现阶段研究 | 第16页 |
1.5 本文的实验思路与实验内容 | 第16-19页 |
第二章 本文所用化学试剂与表征方法 | 第19-25页 |
2.1 化学药品与测量表征设备 | 第19页 |
2.1.1 化学药品 | 第19页 |
2.1.2 测量与表征设备 | 第19页 |
2.2 样品的表征、测试方法 | 第19-25页 |
2.2.1 X-射线粉末衍射研究晶体结构 | 第19-22页 |
2.2.2 高分辨透射电镜研究微观结构 | 第22页 |
2.2.3 X-射线光电子能谱定性检测 | 第22-23页 |
2.2.4 拉曼光谱定性检测 | 第23页 |
2.2.5 紫外-可见分光光度法 | 第23-25页 |
第三章 MoS_2/TiO_2(001)异质结的合成及其光催化特性研究 | 第25-45页 |
3.1 MoS_2/TiO_2(001)异质结 | 第25-27页 |
3.2 样品合成与特性测试 | 第27-29页 |
3.2.1 样品的合成 | 第27-28页 |
3.2.2 晶体结构与晶相 | 第28页 |
3.2.3 光催化实验 | 第28-29页 |
3.2.4 羟基自由基(·OH)测量 | 第29页 |
3.3 结果与分析 | 第29-42页 |
3.3.1 晶体结构和形貌分析 | 第29-32页 |
3.3.2 XPS和UV-Vis DRS光谱 | 第32-35页 |
3.3.3 光催化活性 | 第35-39页 |
3.3.4 和P25比较 | 第39-42页 |
3.4 样品的CV特性 | 第42-43页 |
3.5 结论 | 第43-45页 |
第四章 WS_2/TiO_2(101) 异质结的制备及其光催化性能研究 | 第45-61页 |
4.1 二硫化钨复合材料 | 第45页 |
4.2 样品合成与特性测试 | 第45-48页 |
4.2.1 样品的合成 | 第45-46页 |
4.2.2 晶体结构与晶相 | 第46-47页 |
4.2.3 光催化实验 | 第47页 |
4.2.4 羟基自由基(·OH)测量 | 第47-48页 |
4.3 结果与分析 | 第48-60页 |
4.3.1 晶体结构与形貌特征 | 第48-51页 |
4.3.2 紫外-可见吸收光谱 | 第51-53页 |
4.3.3 光催化活性 | 第53-55页 |
4.3.4 和TO比较 | 第55-57页 |
4.3.5 双异质结的协同作用 | 第57-60页 |
4.4 结论 | 第60-61页 |
第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
参考文献 | 第63-68页 |
附录 | 第68页 |