| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.2 长余辉力致发光材料概述 | 第13-19页 |
| 1.3 长余辉发光机理 | 第19-23页 |
| 1.3.1 空穴转移模型(Matsuzawa) | 第19-20页 |
| 1.3.2 位型坐标模型 | 第20页 |
| 1.3.3 能量转移模型(双光子吸收模型) | 第20-21页 |
| 1.3.4 隧穿效应模型 | 第21-22页 |
| 1.3.5 Clabau模型 | 第22-23页 |
| 1.3.6 Aitasalo模型 | 第23页 |
| 1.4 力致发光机理 | 第23-26页 |
| 1.4.1 SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))的FML机理 | 第23-24页 |
| 1.4.2 SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))的EML和PML机理 | 第24-26页 |
| 1.5 力致发光(ML)的探测技术 | 第26-28页 |
| 1.5.1 PIN光电探测器 | 第26-27页 |
| 1.5.2 雪崩光电二极管(APD) | 第27页 |
| 1.5.3 光电倍增管(PMT) | 第27-28页 |
| 1.5.4 探测器的选择 | 第28页 |
| 1.6 选题的内容及意义 | 第28-30页 |
| 1.6.1 本课题研究的主要内容 | 第28-29页 |
| 1.6.2 本课题研究的意义 | 第29-30页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第30-34页 |
| 2.1 样品的制备 | 第30-31页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第30页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第30页 |
| 2.1.3 荧光膜的制备方法 | 第30-31页 |
| 2.2 样品的测试仪器与表征 | 第31-34页 |
| 2.2.1 荧光光谱仪 | 第31-32页 |
| 2.2.2 自制力致发光测试装置 | 第32-34页 |
| 第三章 无背景光辅助激发时SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))荧光膜的力致发光特性 | 第34-44页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 实验结果与分析 | 第34-42页 |
| 3.2.1 SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))长余辉发光材料的激发和发射光谱 | 第34-35页 |
| 3.2.2 荧光膜的余辉衰减曲线 | 第35-36页 |
| 3.2.3 衰减时间对于ML强度的影响 | 第36-38页 |
| 3.2.4 无背景光辅助激发时SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))荧光膜的ML特性 | 第38-41页 |
| 3.2.5 SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))荧光膜的ML强度与小球落下高度的关系 | 第41-42页 |
| 3.3 小结 | 第42-44页 |
| 第四章 有背景光辅助激发时SrAl_2O_4:(Eu~(2+),Dy~(3+))荧光膜的力致发光特性 | 第44-50页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 长余辉材料的力致发光特性 | 第44-49页 |
| 4.2.1 背景光的选择 | 第44-45页 |
| 4.2.2 背景光辅助照射时的ML特性 | 第45-47页 |
| 4.2.3 背景光照辅助照射时ML强度与小球落下高度的关系 | 第47-48页 |
| 4.2.4 有无背景光辅助照射对ML强度的影响 | 第48页 |
| 4.2.5 背景光光照强度对ML强度与的影响 | 第48-49页 |
| 4.3 小结 | 第49-50页 |
| 第五章 ML机理探讨 | 第50-54页 |
| 5.1 无背景光照射时的ML机理模型 | 第50-51页 |
| 5.2 背景光辅助照射时的ML机理模型 | 第51页 |
| 5.3 理论与实验数据对比 | 第51-54页 |
| 5.3.1 无背景光情况时ML强度与小球高度H的关系 | 第51-53页 |
| 5.3.2 有背景光辅助照射时ML强度与小球高度的关系 | 第53-54页 |
| 第六章 结论与展望 | 第54-56页 |
| 6.1 结论 | 第54页 |
| 6.2 展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-66页 |
| 附录 | 第66页 |
