| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 Huesler合金材料简介 | 第10-12页 |
| 1.3 Heusler合金的研究现状 | 第12-15页 |
| 1.4 电沉积法制备纳米材料的简介 | 第15-17页 |
| 1.5 本课题的研究目的、意义和内容 | 第17-19页 |
| 第二章 样品的制备与表征 | 第19-25页 |
| 2.1 样品的制备 | 第19-22页 |
| 2.1.1 实验仪器和设备 | 第19页 |
| 2.1.2 实验中使用的试剂 | 第19-20页 |
| 2.1.3 电化学沉积之前Cu基底的前期处理 | 第20-22页 |
| 2.1.4 电化学沉积之前ITO基底的前期处理 | 第22页 |
| 2.2 电化学沉积实验装置 | 第22-23页 |
| 2.3 电化学沉积电解液的配制 | 第23页 |
| 2.4 样品的表征方法及其原理 | 第23-25页 |
| 2.4.1 X射线衍射(XRD) | 第23页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
| 2.4.3 能谱分析仪(EDS) | 第23-24页 |
| 2.4.4 振动样品磁强计(VSM) | 第24-25页 |
| 第三章 电沉积法制备Fe_2NiSn薄膜的研究 | 第25-41页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 电流密度对样品结构和形貌的影响 | 第25-28页 |
| 3.2.1 不同电流密度制备薄膜的XRD分析 | 第26-27页 |
| 3.2.2 不同电流密度制备薄膜的形貌分析 | 第27-28页 |
| 3.3 沉积时间对样品结构、成分的影响 | 第28-32页 |
| 3.3.1 不同沉积时间制备薄膜的XRD分析 | 第29-30页 |
| 3.3.2 不同沉积时间制备薄膜的成分分析 | 第30-32页 |
| 3.4 PH值对样品成分的影响 | 第32-34页 |
| 3.5 金属离子浓度比对样品成分的影响 | 第34-35页 |
| 3.6 衬底对样品结构和成分的影响 | 第35-39页 |
| 3.6.1 不同衬底下制备薄膜的XRD分析 | 第35-36页 |
| 3.6.2 不同衬底下制备薄膜的成分分析 | 第36-37页 |
| 3.6.3 不同沉积时间下ITO衬底上制备薄膜的成分分析 | 第37-38页 |
| 3.6.4 不同电流密度下ITO衬底上制备薄膜的成分分析 | 第38-39页 |
| 3.7 Heusler合金Fe_2NiSn薄膜的磁性表征 | 第39-40页 |
| 3.8 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 电沉积制备Co_2NiSn薄膜的研究 | 第41-49页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 电流密度对样品结构的影响 | 第41-43页 |
| 4.3 沉积时间对样品结构、成分和形貌的影响 | 第43-47页 |
| 4.3.1 不同沉积时间制备薄膜的XRD分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 不同沉积时间制备薄膜的成分分析 | 第45-47页 |
| 4.3.3 不同沉积时间制备薄膜的形貌分析 | 第47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 总结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 在学期间的研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
