| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 石墨烯的背景介绍 | 第9-10页 |
| 1.3 石墨烯薄膜的传统制备方法 | 第10-12页 |
| 1.3.1 旋涂法 | 第11页 |
| 1.3.2 喷涂法 | 第11页 |
| 1.3.3 抽滤沉积法 | 第11页 |
| 1.3.4 化学气相沉积法 | 第11-12页 |
| 1.4 PECVD法的简要介绍 | 第12-14页 |
| 1.4.1 等离子体源 | 第12-13页 |
| 1.4.2 前驱体 | 第13页 |
| 1.4.3 温度 | 第13-14页 |
| 1.4.4 压强 | 第14页 |
| 1.4.5 衬底 | 第14页 |
| 1.5 利用PECVD法制备石墨烯薄膜的研究进展 | 第14-15页 |
| 1.6 修复还原氧化石墨烯（RGO）薄膜的研究进展 | 第15-19页 |
| 1.7 本文的选题意义和研究内容 | 第19-21页 |
| 1.7.1 选题意义 | 第19-20页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第20-21页 |
| 第二章 利用PECVD法直接制备石墨烯薄膜 | 第21-32页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 石墨烯薄膜的制备 | 第21-23页 |
| 2.2.1 实验试剂、原料和仪器 | 第21-22页 |
| 2.2.2 石墨烯薄膜制备流程 | 第22-23页 |
| 2.3 石墨烯薄膜的表征分析 | 第23-28页 |
| 2.3.1 XRD研究 | 第23-24页 |
| 2.3.2 拉曼光谱研究 | 第24-26页 |
| 2.3.3 SEM研究 | 第26-27页 |
| 2.3.4 光电性能研究 | 第27-28页 |
| 2.4 PECVD直接生长石墨烯薄膜的机理讨论 | 第28-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 利用PECVD法修复还原氧化石墨烯（RGO） | 第32-40页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 RGO的修复实验 | 第32-34页 |
| 3.2.1 实验试剂、原料和仪器 | 第32-33页 |
| 3.2.2 修复RGO的实验流程 | 第33-34页 |
| 3.3 修复RGO的第一性原理的仿真研究 | 第34-37页 |
| 3.4 RGO薄膜修复前后的表征分析 | 第37-39页 |
| 3.4.1 拉曼光谱研究 | 第37-38页 |
| 3.4.2 光电性能研究 | 第38-39页 |
| 3.5 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 氢气在修复RGO中的作用 | 第40-47页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 氢气+甲烷等离子体修复前后的RGO的表征分析 | 第40-45页 |
| 4.2.1 AFM研究 | 第40-42页 |
| 4.2.2 拉曼光谱研究 | 第42-44页 |
| 4.2.3 光电性能研究 | 第44-45页 |
| 4.3 RGO修复-刻蚀平衡温度的研究 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第五章 总结与展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-55页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第55-56页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |
