| 致谢 | 第3-4页 |
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第11-26页 |
| 1.1 前言 | 第11-17页 |
| 1.2 自成像效应研究背景 | 第17-19页 |
| 1.3 自成像效应在光刻中的应用 | 第19-24页 |
| 1.4 论文研究内容及结构安排 | 第24-26页 |
| 2 自成像效应光场分析 | 第26-42页 |
| 2.1 引言 | 第26页 |
| 2.2 标量衍射理论 | 第26-29页 |
| 2.2.1 瑞利—索末菲理论 | 第28页 |
| 2.2.2 角谱理论 | 第28-29页 |
| 2.3 一维周期微纳自成像光场分析 | 第29-34页 |
| 2.3.1 理论分析 | 第29-32页 |
| 2.3.2 数值仿真及分析 | 第32-34页 |
| 2.4 二维周期微纳结构自成像光场 | 第34-41页 |
| 2.4.1 理论分析 | 第34-37页 |
| 2.4.2 数值仿真及分析 | 第37-41页 |
| 2.5 小结 | 第41-42页 |
| 3 定位型自成像光刻焦深研究 | 第42-56页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 自成像效应焦深理论推导 | 第42-44页 |
| 3.3 数值仿真及分析 | 第44-47页 |
| 3.4 实验及分析 | 第47-50页 |
| 3.5 定位型自成像光刻太赫兹金属网聚酰亚胺薄膜基底制备 | 第50-55页 |
| 3.5.1 光敏聚酰亚胺特性 | 第50-51页 |
| 3.5.2 制备工艺流程 | 第51-55页 |
| 3.6 小结 | 第55-56页 |
| 4 紫外光谱积分自成像光刻研究 | 第56-69页 |
| 4.1 引言 | 第56页 |
| 4.2 紫外自成像光谱积分自成像效应研究 | 第56-64页 |
| 4.3 实验分析 | 第64-67页 |
| 4.3.1 实验系统搭建 | 第64-65页 |
| 4.3.2 光刻曝光实验 | 第65-67页 |
| 4.4 小结 | 第67-69页 |
| 5 投影光刻中的自成像效应研究 | 第69-81页 |
| 5.1 引言 | 第69页 |
| 5.2 瑞利判据 | 第69-71页 |
| 5.2.1 光刻投影物镜的分辨力 | 第69-71页 |
| 5.2.2 光刻投影物镜的焦深 | 第71页 |
| 5.3 自成像效应引入的周期失真研究 | 第71-75页 |
| 5.4 实验及分析 | 第75-80页 |
| 5.4.1 投影光刻实验光路设计与调试 | 第75-78页 |
| 5.4.2 光刻曝光实验及分析 | 第78-80页 |
| 5.5 小结 | 第80-81页 |
| 6 二次谐波非线性自成像光刻 | 第81-85页 |
| 6.1 引言 | 第81-82页 |
| 6.2 基于二次谐波非线性自成像光刻的初步探索 | 第82-84页 |
| 6.3 小结 | 第84-85页 |
| 7 总结与展望 | 第85-87页 |
| 7.1 总结 | 第85页 |
| 7.2 论文创新点 | 第85-86页 |
| 7.3 展望 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-95页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第95-96页 |