| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| Contents | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 本课题的研究背景 | 第11-13页 |
| 1.2 PCB光刻技术简介 | 第13-19页 |
| 1.2.1 掩模光刻技术 | 第14-17页 |
| 1.2.2 无掩模光刻技术 | 第17-19页 |
| 1.3 PCB光刻的发展现状与趋势 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文研究的内容 | 第20-22页 |
| 第二章 数字光刻关键技术单元及分系统特性 | 第22-29页 |
| 2.1 数字微反射镜DMD | 第22-25页 |
| 2.1.1 DMD简介 | 第22-23页 |
| 2.1.2 DMD的灰度成像原理 | 第23-25页 |
| 2.2 光源照明系统 | 第25-27页 |
| 2.3 数字光刻投影物镜 | 第27页 |
| 2.4 数字光刻控制系统 | 第27-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 PCB数字光刻投影系统光学设计 | 第29-45页 |
| 3.1 前言 | 第29页 |
| 3.2 像差理论研究 | 第29-34页 |
| 3.2.1 六种基本像差 | 第29-33页 |
| 3.2.2 校正基本像差的方法 | 第33-34页 |
| 3.3 像质评价和公差研究 | 第34-37页 |
| 3.3.1 像质评价方式 | 第34-36页 |
| 3.3.2 光学系统的像差公差 | 第36-37页 |
| 3.4 设计步骤 | 第37-38页 |
| 3.5 数字光刻1:1投影物镜设计要点 | 第38-40页 |
| 3.5.1 结构设计 | 第38-40页 |
| 3.5.2 光学模拟设计 | 第40页 |
| 3.6 像质评价 | 第40-44页 |
| 3.6.1 波像差图 | 第41页 |
| 3.6.2 点列图 | 第41-42页 |
| 3.6.3 光学调制传递函数 | 第42-43页 |
| 3.6.4 场区和畸变 | 第43-44页 |
| 3.7 设计结论 | 第44页 |
| 3.8 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 PCB数字光刻倾斜扫描技术研究 | 第45-52页 |
| 4.1 前言 | 第45页 |
| 4.2 实验背景 | 第45-46页 |
| 4.3 DMD倾斜扫描工作原理 | 第46-49页 |
| 4.4 实验步骤 | 第49-50页 |
| 4.5 实验结果及分析 | 第50-51页 |
| 4.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 基于DMD光刻扫描的动态图形控制技术的研究 | 第52-60页 |
| 5.1 前言 | 第52页 |
| 5.2 研究背景 | 第52-53页 |
| 5.3 设计思想 | 第53页 |
| 5.4 设计过程 | 第53-58页 |
| 5.5 分析比较 | 第58-59页 |
| 5.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读学位期间发表的论文及申请的专利 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |