镁合金轮毂微弧氧化电源及过程控制系统研制
| 插图索引 | 第1-12页 |
| 插表索引 | 第12-13页 |
| 摘要 | 第13-15页 |
| Abstract | 第15-17页 |
| 第1章 绪论 | 第17-30页 |
| ·问题的提出 | 第18-21页 |
| ·镁合金的耐蚀性问题 | 第18-19页 |
| ·提高镁合金耐蚀性的方法 | 第19-20页 |
| ·微弧氧化表面处理技术 | 第20-21页 |
| ·镁合金轮毂的发展现状 | 第21-22页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状 | 第22-27页 |
| ·国外微弧氧化工艺研究现状 | 第22页 |
| ·国内微弧氧化技术研究现状 | 第22-24页 |
| ·微弧氧化电源的研究发展概况 | 第24-27页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第27-30页 |
| ·研究内容及目标 | 第27-29页 |
| ·技术路线 | 第29-30页 |
| 第2章 微弧氧化机理及其对电源的要求 | 第30-41页 |
| ·实验材料及方法 | 第30-32页 |
| ·实验材料及试样制备 | 第30-31页 |
| ·实验设备及膜层性能检测 | 第31-32页 |
| ·微弧氧化膜层生长过程 | 第32-35页 |
| ·阳极氧化阶段 | 第32-33页 |
| ·微弧氧化阶段 | 第33页 |
| ·大弧放电阶段 | 第33-34页 |
| ·起弧电压和大弧电压 | 第34-35页 |
| ·微弧氧化的机理研究和建模 | 第35-39页 |
| ·微区电弧放电的条件 | 第35-36页 |
| ·微区电弧放电过程及建模 | 第36-37页 |
| ·微区电弧引起的热循环 | 第37-39页 |
| ·微弧氧化电源的基本要求 | 第39-40页 |
| ·燃弧时间和冷却时间 | 第39页 |
| ·电源电压的基本要求 | 第39页 |
| ·微弧氧化理想的电压波形 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 镁合金轮毂微弧氧化电源研制 | 第41-56页 |
| ·电源总体设计方案 | 第41-43页 |
| ·电源主电路 | 第43-52页 |
| ·主电路拓扑结构及其保护电路 | 第43-45页 |
| ·整流电路及滤波电路 | 第45-47页 |
| ·滤波电路 | 第47-48页 |
| ·斩波电路 | 第48-51页 |
| ·抗干扰措施 | 第51-52页 |
| ·各种输出方式的实现 | 第52-55页 |
| ·直流方式 | 第52页 |
| ·单极性脉冲输出方式 | 第52-53页 |
| ·双极性脉冲输出方式 | 第53-54页 |
| ·带放电回路的脉冲输出方式 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第4章 镁合金轮毂微弧氧化的过程控制 | 第56-83页 |
| ·控制电路设计 | 第56-69页 |
| ·单片机系统电路 | 第56-59页 |
| ·信号采样电路 | 第59-60页 |
| ·可控硅同步触发电路 | 第60-65页 |
| ·IGBT驱动电路 | 第65-69页 |
| ·控制系统软件设计 | 第69-72页 |
| ·输出脉冲波形调制 | 第69-70页 |
| ·PID控制 | 第70-72页 |
| ·过程控制程序流程 | 第72-76页 |
| ·微弧氧化操作主流程图 | 第72-73页 |
| ·手动方式参数设置 | 第73-74页 |
| ·程控方式参数设置 | 第74-75页 |
| ·微弧氧化过程控制程序流程 | 第75-76页 |
| ·过程控制系统及人机界面 | 第76-82页 |
| ·单片机系统电路 | 第76-80页 |
| ·串行接口及通讯协议 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第5章 工艺试验的比较研究及过程控制方案制定 | 第83-107页 |
| ·电源脉冲形式的影响及优化 | 第83-89页 |
| ·双极性脉冲模式 | 第83-85页 |
| ·带放电回路脉冲 | 第85-87页 |
| ·单极性脉冲 | 第87-89页 |
| ·输出伏安特性及加载方式的影响及优化 | 第89-95页 |
| ·恒流模式及优化 | 第90-92页 |
| ·恒电压增幅输出及优化 | 第92-95页 |
| ·脉冲参数的影响及优化 | 第95-98页 |
| ·脉冲频率的影响及优化 | 第95-97页 |
| ·占空比的影响及优化 | 第97-98页 |
| ·轮毂外观及装夹方式的影响 | 第98-99页 |
| ·轮毂缺陷的影响 | 第98-99页 |
| ·装夹方式的影响 | 第99页 |
| ·过程控制方案的制定 | 第99-104页 |
| ·恒流模式下的过程控制 | 第100-103页 |
| ·恒压模式下的过程控制 | 第103-104页 |
| ·参数的合理取值范围 | 第104页 |
| ·设备的实际应用性能 | 第104-105页 |
| ·本章小结 | 第105-107页 |
| 结论 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-115页 |
| 致谢 | 第115-116页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第116页 |
