| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 符号对照表 | 第12-13页 |
| 缩略语对照表 | 第13-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-26页 |
| 1.1 氧化镓的晶体结构 | 第16页 |
| 1.2 氧化镓材料的光学与电学性质 | 第16-19页 |
| 1.3 氧化镓材料的国内外研究进程与应用 | 第19-24页 |
| 1.3.1 国外的研究 | 第19-22页 |
| 1.3.2 国内对氧化镓的研究状况 | 第22-23页 |
| 1.3.3 氧化镓材料的应用 | 第23-24页 |
| 1.4 本文的研究内容安排 | 第24-26页 |
| 第二章 PLD薄膜生长设备及薄膜测试表征 | 第26-38页 |
| 2.1 脉冲激光沉积（pulse laser deposition，PLD）介绍 | 第26-31页 |
| 2.1.1 PLD技术发展及特点 | 第26-27页 |
| 2.1.2 PLD制膜技术的基本原理 | 第27-29页 |
| 2.1.3 PLD系统组成 | 第29-31页 |
| 2.2 论文涉及的薄膜表征方法 | 第31-38页 |
| 2.2.1 X射线衍射（X-ray diffraction, XRD） | 第31-32页 |
| 2.2.2 原子力显微镜（Atomic Force Microscope，AFM） | 第32-33页 |
| 2.2.3 X射线光电子能谱分析（X-ray photoelectron spectroscopy，XPS） | 第33-34页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜（transmission electron microscope，TEM） | 第34-35页 |
| 2.2.5 光致发光谱（Photoluminescence，PL） | 第35-36页 |
| 2.2.6 拉曼光谱（Ramam spectra） | 第36-37页 |
| 2.2.7 椭圆偏振光谱仪 | 第37-38页 |
| 第三章 蓝宝石上氧化镓薄膜生长与性质 | 第38-56页 |
| 3.1 PLD制备氧化镓薄膜的工艺流程 | 第38-39页 |
| 3.2 氧气分压与温度对外延氧化镓薄膜的影响 | 第39-44页 |
| 3.3 氧化镓薄膜成分和生长模式 | 第44-49页 |
| 3.4 C面蓝宝石上制备氧化镓薄膜的光学性质研究 | 第49-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 同质外延 β-Ga_2O_3薄膜生长研究 | 第56-64页 |
| 4.1 XRD测试 | 第56-60页 |
| 4.2 Raman测试 | 第60-61页 |
| 4.3 AFM测试 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 总结 | 第64-66页 |
| 5.1 全文总结 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 作者简介 | 第74-75页 |
