致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
缩写、符号清单、术语表 | 第10-17页 |
1 绪论 | 第17-34页 |
1.1 显微技术的发展 | 第17-23页 |
1.2 无标记型超分辨显微技术的发展 | 第23-32页 |
1.2.1 近场扫描光学显微成像 | 第24-25页 |
1.2.2 共聚焦型的无标记远场超分辨显微成像 | 第25-28页 |
1.2.3 基于频谱压缩的无标记远场超分辨显微成像 | 第28-30页 |
1.2.4 基于频谱平移的无标记远场超分辨显微成像 | 第30-32页 |
1.3 本论文研究意义与创新点 | 第32-34页 |
2 半导体纳米线环形照明移频超分辨显微成像 | 第34-69页 |
2.1 基于半导体纳米线的超分辨显微成像背景 | 第34-40页 |
2.1.1 半导体纳米线的光学性质 | 第34-37页 |
2.1.2 半导体纳米线的制备 | 第37-38页 |
2.1.3 目前半导体纳米线在无标记超分辨显微成像中的应用及瓶颈 | 第38-40页 |
2.2 纳米线环形照明移频模块设计与制备 | 第40-48页 |
2.2.1 移频机理 | 第40-43页 |
2.2.2 发光纳米线-波导移频模块的设计 | 第43-48页 |
2.3 纳米线照明移频超分辨显微成像的初步探索 | 第48-60页 |
2.3.1 初步实验结果与分辨率分析 | 第48-53页 |
2.3.2 成像的仿真计算 | 第53-56页 |
2.3.3 器件特性分析 | 第56-60页 |
2.4 纳米线环形照明移频超分辨显微成像效果 | 第60-68页 |
2.4.1 二维亚衍射刻蚀图案的成像 | 第60-61页 |
2.4.2 纳米线环形照明显微术在实际样品中的应用 | 第61-64页 |
2.4.3 成像视场分析 | 第64-68页 |
2.5 小结 | 第68-69页 |
3 纳米线环形照明移频超分辨显微术的优化 | 第69-88页 |
3.1 空域与频域上的分析 | 第69-80页 |
3.1.1 空域上对超衍射间距结构的成像分析 | 第69-74页 |
3.1.2 频域上对超衍射间距结构的成像分析 | 第74-78页 |
3.1.3 总结 | 第78-80页 |
3.2 纳米线环形照明移频超分辨显微成像图像重构 | 第80-86页 |
3.2.1 多波长照明与图像重构 | 第80-83页 |
3.2.2 仿真结果 | 第83-86页 |
3.3 纳米线环形照明移频显微成像与其它倏逝波照明显微成像的区别与优势 | 第86-88页 |
4 基于照明调控的非线性超分辨紫外光声显微成像 | 第88-99页 |
4.1 光声显微成像 | 第88-91页 |
4.2 非线性紫外光声显微实验系统 | 第91-94页 |
4.3 对小鼠脑切片细胞核分布的超分辨、高对比度成像 | 第94-98页 |
4.3.1 轴向分辨率的提升 | 第94-96页 |
4.3.2 对比度的提升 | 第96-98页 |
4.4 小结 | 第98-99页 |
5 总结与展望 | 第99-101页 |
参考文献 | 第101-110页 |
作者简介 | 第110-111页 |
攻读博士期间取得的科研成果 | 第111-112页 |