摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第10-20页 |
1.1 课题的研究背景及意义 | 第10-11页 |
1.2 涡流检测技术概述 | 第11-12页 |
1.3 脉冲涡流无损检测技术特点 | 第12-13页 |
1.4 脉冲涡流检测的国内外研究现状 | 第13-17页 |
1.4.1 脉冲涡流检测国外研究现状 | 第13-15页 |
1.4.2 脉冲涡流检测国内研究现状 | 第15-17页 |
1.5 脉冲涡流检测的发展趋势 | 第17-18页 |
1.6 论文研究内容和结构安排 | 第18-20页 |
第二章 脉冲涡流检测原理及理论 | 第20-31页 |
2.1 涡流效应和涡流检测原理 | 第20-21页 |
2.2 脉冲涡流检测系统架构及检测原理 | 第21-22页 |
2.3 脉冲涡流检测的理论模型 | 第22-29页 |
2.3.1 电磁场基本方程组-麦克斯韦方程组 | 第23-24页 |
2.3.2 电磁场在导体中扩散 | 第24-25页 |
2.3.3 脉冲涡流检测信号计算 | 第25-26页 |
2.3.4 脉冲涡流检测的趋肤深度 | 第26-29页 |
2.4 脉冲涡流检测的响应信号特征量 | 第29-30页 |
2.5 本章小结 | 第30-31页 |
第三章 脉冲涡流探头结构参数优化 | 第31-49页 |
3.1 被测试件简介 | 第31-32页 |
3.2 有限元仿真模型搭建 | 第32-38页 |
3.2.1 几何建模及材料参数设置 | 第33-34页 |
3.2.2 物理场参数设定 | 第34-36页 |
3.2.3 模型网格划分 | 第36-37页 |
3.2.4 模型求解和结果呈现 | 第37-38页 |
3.3 脉冲涡流传感器结构参数优化 | 第38-48页 |
3.3.1 内铁芯尺寸对检测信号的影响 | 第39-41页 |
3.3.2 检测线圈尺寸对检测信号的影响 | 第41-42页 |
3.3.3 内屏蔽罩对检测信号的影响 | 第42-43页 |
3.3.4 激励线圈尺寸对检测信号的影响 | 第43-45页 |
3.3.5 外屏蔽罩对检测信号的影响 | 第45页 |
3.3.6 缺陷位置与内屏蔽罩相对位置对检测信号的影响 | 第45-46页 |
3.3.7 检测线圈检测范围 | 第46-47页 |
3.3.8 探头结构参数优化总结 | 第47-48页 |
3.4 本章小结 | 第48-49页 |
第四章 检测系统平台实现 | 第49-63页 |
4.1 脉冲涡流检测平台系统框图 | 第49页 |
4.2 脉冲涡流检测平台硬件搭建 | 第49-60页 |
4.2.1 信号发生模块 | 第49-51页 |
4.2.2 功率放大模块 | 第51-53页 |
4.2.3 激励线圈模块 | 第53页 |
4.2.4 检测线圈模块 | 第53-54页 |
4.2.5 脉冲涡流探头整体结构 | 第54页 |
4.2.6 数据采集模块 | 第54-57页 |
4.2.7 LabVIEW数据采集程序 | 第57-60页 |
4.3 标准试件检测 | 第60-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-63页 |
第五章 多层异种金属材料缺陷检测 | 第63-77页 |
5.1 多层异种金属平板制备 | 第63页 |
5.2 实验方案 | 第63-64页 |
5.3 实验实施 | 第64-75页 |
5.4 本章小结 | 第75-77页 |
第六章 总结与展望 | 第77-80页 |
6.1 全文总结 | 第77-78页 |
6.2 后期工作展望 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第86-87页 |