| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 铁电体及铁电薄膜 | 第10-15页 |
| 1.1.1 铁电体简介 | 第10-12页 |
| 1.1.2 铁电体的分类 | 第12页 |
| 1.1.3 铁电薄膜 | 第12-15页 |
| 1.2 存储器用铁电材料的研究进展 | 第15-18页 |
| 1.2.1 铁电薄膜在存储器中的应用 | 第15-17页 |
| 1.2.2 存储器用铁电薄膜材料存在问题 | 第17-18页 |
| 1.3 铁电畴结构 | 第18-21页 |
| 1.3.1 铁电薄膜畴变演化 | 第18-19页 |
| 1.3.2 铁电薄膜畴的研究方法 | 第19-21页 |
| 1.4 文章的选题依据及主要内容 | 第21-23页 |
| 1.4.1 文章的选题依据 | 第21-22页 |
| 1.4.2 文章的主要内容 | 第22-23页 |
| 第2章 研究内容及方法 | 第23-34页 |
| 2.1 铁电薄膜的THz时域光谱研究 | 第23-28页 |
| 2.1.1 THz波简介 | 第23-25页 |
| 2.1.2 THz时域光谱 | 第25-27页 |
| 2.1.3 铁电薄膜的THz时域光谱研究 | 第27-28页 |
| 2.2 铁电薄膜的二次谐波研究 | 第28-33页 |
| 2.2.1 基于飞秒激光的二次谐波产生技术 | 第28-30页 |
| 2.2.2 铁电薄膜的二次谐波研究 | 第30-31页 |
| 2.2.3 实验光路 | 第31-33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 铁电薄膜的THz时域光谱研究 | 第34-43页 |
| 3.1 PZT铁电薄膜结构的表征 | 第34-37页 |
| 3.2 PZT铁电薄膜的THz时域光谱的研究 | 第37-41页 |
| 3.2.1 晶体取向对PZT/SRO/STO薄膜THz吸收光谱的影响 | 第37-40页 |
| 3.2.2 锆钛比对PZT/SRO/STO薄膜THz吸收光谱的影响 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 铁电薄膜畴结构的二次谐波研究 | 第43-62页 |
| 4.1 铁电薄膜SHG的理论研究 | 第43-52页 |
| 4.1.1 铁电薄膜产生二次谐波 | 第43-49页 |
| 4.1.2 铁电薄膜畴结构对SHG强度的影响 | 第49-52页 |
| 4.2 PbZr_(0.2)Ti_(0.8)O_3/DyScO_3铁电薄膜的二次谐波研究 | 第52-57页 |
| 4.2.1 SHG强度I随方位角f 的变化 | 第52-54页 |
| 4.2.2 SHG强度I随入射光偏振角 φ 的变化 | 第54-57页 |
| 4.3 PbZr_(0.2)Ti_(0.8)O_3/SrRuO_3/SrTiO_3铁电薄膜的二次谐波研究 | 第57-60页 |
| 4.3.1 SHG强度I随入射光偏振角 φ 的变化 | 第57-60页 |
| 4.4 SHG对铁电薄膜畴翻转的研究 | 第60-61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 总结 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 个人简历与在校期间发表的学术论文与研究成果 | 第73页 |
