摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第13-33页 |
1.1 论文选题背景 | 第13-15页 |
1.2 铂、铱高温抗氧化薄膜的制备方法简介 | 第15-18页 |
1.2.1 电化学沉积法 | 第15-16页 |
1.2.2 物理气相沉积(PVD) | 第16-17页 |
1.2.3 化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
1.3 金属有机化学气相沉积(MOCVD)概述 | 第18-21页 |
1.3.1 CVD的概念及原理 | 第18-20页 |
1.3.2 MOCVD制备涂层的影响因素 | 第20-21页 |
1.4 MOCVD铂、铱薄膜的前躯体研究现状 | 第21-31页 |
1.4.1 MOCVD铂的前躯体 | 第21-25页 |
1.4.2 MOCVD铱的前躯体 | 第25-31页 |
1.5 论文主要研究内容与意义 | 第31-33页 |
1.5.1 主要研究内容 | 第31页 |
1.5.2 论文的意义 | 第31-33页 |
第二章 Ir(acac)_3的合成与表征 | 第33-77页 |
2.1 前言 | 第33-34页 |
2.2 实验方案 | 第34-39页 |
2.2.1 实验总体方案的选择 | 第34页 |
2.2.2 实验方法 | 第34-38页 |
2.2.3 样品性能测试与表征 | 第38-39页 |
2.3 乙酰丙酮铱的表征 | 第39-49页 |
2.3.1 乙酰丙酮铱的铱含量和元素分析 | 第39-40页 |
2.3.2 乙酰丙酮铱的EI-MS分析 | 第40-42页 |
2.3.3 乙酰丙酮铱的FI-TR分析 | 第42-44页 |
2.3.4 乙酰丙酮铱的UV-vis分析 | 第44-47页 |
2.3.5 配合物的~1HNMR分析 | 第47-48页 |
2.3.6 小结 | 第48-49页 |
2.4 乙酰丙酮铱产率的影响因素 | 第49-63页 |
2.4.1 三氯化铱的影响 | 第49-53页 |
2.4.2 碳酸氢钠的影响 | 第53-56页 |
2.4.3 乙酰丙酮的影响 | 第56-57页 |
2.4.4 溶剂量的影响 | 第57-59页 |
2.4.5 反应温度的影响 | 第59-61页 |
2.4.6 反应时间的影响 | 第61-63页 |
2.5 Ir(acac)_3水溶性研究 | 第63-72页 |
2.5.1 溶剂量对溶解的影响 | 第63-64页 |
2.5.2 溶解时间对溶解的影响 | 第64-66页 |
2.5.3 温度与溶解的关系 | 第66-67页 |
2.5.4 Ir(acac)_3溶解产物的表征 | 第67-72页 |
2.6 水溶液中合成Ir(acac)_3机理探讨 | 第72-75页 |
2.7 Ir(acac)_3合成工艺的改进 | 第75-76页 |
2.7.1 试验过程 | 第75页 |
2.7.2 结果 | 第75-76页 |
2.8 本章小结 | 第76-77页 |
第三章 CpPt(CH_3)_3的合成 | 第77-97页 |
3.1 前言 | 第77页 |
3.2 实验方案 | 第77-81页 |
3.2.1 实验设备 | 第77页 |
3.2.2 实验试剂 | 第77-78页 |
3.2.3 实验方法 | 第78-80页 |
3.2.4 检测方法 | 第80-81页 |
3.3 三甲基碘化铂的表征 | 第81-88页 |
3.3.1 元素分析与铂含量分析 | 第81页 |
3.3.2 三甲基碘化铂的XPS | 第81-82页 |
3.3.3 质谱(MS) | 第82-85页 |
3.3.4 ~1H核磁共振谱和~(13)C核磁共振谱(~1H NMR、~(13)C NMR) | 第85-86页 |
3.3.5 红外光谱(IR) | 第86-87页 |
3.3.6 结果 | 第87-88页 |
3.4 三甲基(环戊二烯基)铂的表征 | 第88-91页 |
3.4.1 元素及铂含量分析 | 第88页 |
3.4.2 红外光谱(IR) | 第88-90页 |
3.4.3 ~1H核磁共振谱(~1H NMR) | 第90-91页 |
3.4.4 结果 | 第91页 |
3.5 Pt(Me)_3I的合成工艺研究 | 第91-96页 |
3.5.1 Pt(Me)_3I的合成工艺的选择 | 第91-92页 |
3.5.2 甲基锂用量对(CH_3)_3PtI的影响 | 第92-95页 |
3.5.3 (CH_3)_3PtI的反应机理 | 第95-96页 |
3.6 小结 | 第96-97页 |
第四章 乙酰丙酮铱在MOCVD过程中的应用研究 | 第97-117页 |
4.1 实验设备及方法过程 | 第97-98页 |
4.1.1 实验设备 | 第97-98页 |
4.1.2 实验过程 | 第98页 |
4.2 乙酰丙酮铱升华速率测定 | 第98-100页 |
4.2.1 实验方案 | 第99页 |
4.2.2 结果 | 第99-100页 |
4.3 铱涂层的MOCVD过程 | 第100-115页 |
4.3.1 铱涂层形貌观察及成分分析 | 第100-103页 |
4.3.2 H_2分压对沉积速率的影响 | 第103-104页 |
4.3.3 反应温度对沉积速率的影响 | 第104-106页 |
4.3.4 动力学模型建立 | 第106-115页 |
4.4 本章小结 | 第115-117页 |
第五章 MOCVD制备铂薄膜研究 | 第117-139页 |
5.1 前言 | 第117页 |
5.2 实验设备、仪器及试剂 | 第117-120页 |
5.2.1 实验设备 | 第117-118页 |
5.2.2 实验用试剂及材料 | 第118-120页 |
5.3 镍基高温合金上制备Pt薄膜研究 | 第120-127页 |
5.3.1 实验方案 | 第120-121页 |
5.3.2 结果讨论 | 第121-127页 |
5.4 Pt在不同基体表面的沉积研究 | 第127-135页 |
5.4.1 Pt在E、B和镍基高温合金基体表面的沉积 | 第127-130页 |
5.4.2 Pt在B、C、D表面的沉积 | 第130-133页 |
5.4.3 Pt在E、A、D表面的沉积 | 第133-135页 |
5.5 镍基高温合金表面Pt薄膜的制备 | 第135-137页 |
5.5.1 实验方案 | 第135页 |
5.5.2 实验结果 | 第135-137页 |
5.6 本章小结 | 第137-139页 |
第六章 结论 | 第139-143页 |
6.1 研究结论 | 第139-140页 |
6.2 论文创新点 | 第140-141页 |
6.3 展望 | 第141-143页 |
致谢 | 第143-145页 |
参考文献 | 第145-153页 |
附录A 在读博士期间学术成果 | 第153-155页 |
附录B 英文缩写对照表 | 第155页 |