双辉光离子渗金属系统结构改进和电源控制研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·离子渗技术的发展及研究现状 | 第10-12页 |
| ·离子渗技术的发展 | 第10-11页 |
| ·双辉光离子渗金属技术的研究现状及应用 | 第11-12页 |
| ·双层辉光离子渗金属技术的优点 | 第12页 |
| ·双层辉光离子渗金属的发展前景 | 第12页 |
| ·选题背景和研究目标 | 第12-13页 |
| ·选题背景 | 第12-13页 |
| ·研究目标 | 第13页 |
| ·本章小结 | 第13-14页 |
| 第二章 双辉光离子渗金属技术概述 | 第14-21页 |
| ·传统双辉光离子渗金属设备及特点 | 第14-15页 |
| ·传统双辉光离子渗金属设备 | 第14页 |
| ·传统双辉光离子渗金属工艺的特点 | 第14-15页 |
| ·阴极、源极电压选取的标准 | 第15页 |
| ·双辉光离子渗金属技术原理 | 第15-19页 |
| ·辉光放电基本理论 | 第15-16页 |
| ·双辉光离子渗金属基本理论 | 第16-19页 |
| ·传统双辉光离子渗金属设备的问题 | 第19-20页 |
| ·传统双辉光离子渗金属设备的缺陷 | 第19页 |
| ·传统设备缺陷的原因分析 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第三章 双层辉光离子渗金属设备的电源改进方案 | 第21-27页 |
| ·电源指标及电源选取设计方案 | 第21-22页 |
| ·电源设计指标 | 第21页 |
| ·电源设计方案 | 第21-22页 |
| ·电源的整体控制方案 | 第22-25页 |
| ·电源控制方案一 | 第23页 |
| ·电源控制方案二 | 第23-25页 |
| ·双辉光离子渗金属炉体结构改进方案 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第四章 电源各单元电路的设计 | 第27-34页 |
| ·控制信号的产生 | 第27-28页 |
| ·温控PWM电路 | 第28-30页 |
| ·驱动电路的设计 | 第30-32页 |
| ·开关管的选择 | 第30页 |
| ·光耦驱动电路的设计 | 第30-32页 |
| ·过流保护电路的设计 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第五章 电路仿真调试分析 | 第34-36页 |
| ·温控调节脉冲信号的占空比 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第六章 总结与展望 | 第36-37页 |
| 论文说明 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 致谢 | 第40页 |
