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几种光催化材料本征缺陷和掺杂性质的理论研究

中文摘要第1-12页
Abstract第12-17页
符号说明第17-18页
第一章 绪论第18-28页
   ·引言第18-19页
   ·半导体光催化的基本原理第19-20页
   ·本征缺陷和掺杂对材料光催化性能的影响第20-24页
     ·拓展光吸收范围第20-22页
     ·促进载流子分离和迁移第22-23页
     ·光催化反应的活性位点第23-24页
   ·本论文的研究内容和结论第24-25页
 参考文献第25-28页
第二章 第一性原理计算的理论基础第28-40页
   ·薛定谔方程第28-29页
   ·第一性原理计算的近似处理第29-32页
     ·非相对论近似第29-30页
     ·Born-Oppenheimer近似第30页
     ·Hartree-Fock近似第30-32页
   ·密度泛函理论第32-35页
     ·Thomas-Fermi模型第32-33页
     ·Hobenberg-Kohn定理第33-34页
     ·Kohn-Sham方程第34-35页
   ·交换关联能近似第35-38页
     ·局域密度近似(LDA)第35-36页
     ·广义梯度近似(GGA)第36-37页
     ·LDA+U和GGA+U第37页
     ·杂化密度泛函第37-38页
   ·第一性原理计算软件包的介绍第38页
 参考文献第38-40页
第三章 本征缺陷引起的铋基材料近红外光催化性质第40-54页
   ·研究背景第40-41页
   ·计算方法第41-42页
   ·结果和讨论第42-52页
     ·元素化学势第42-45页
     ·含不同本征缺陷Bi_2W(Mo)O_6的电子结构第45-48页
     ·氧空位缺陷对Bi_2W(Mo)O_6近红外光催化性质的影响第48-52页
   ·本章小结第52页
 参考文献第52-54页
第四章 超薄BiOCl纳米片光催化性质的理论研究第54-68页
   ·研究背景第54-55页
   ·计算方法第55-56页
   ·结果和讨论第56-65页
     ·元素化学势第56-57页
     ·表面能和劈裂能第57-60页
     ·缺陷形成能第60-61页
     ·Bi空位对BiOCl纳米片光催化性质的影响第61-65页
   ·本章小结第65-66页
 参考文献第66-68页
第五章 本征缺陷和掺杂对Ta_3N_5光催化性质的影响第68-82页
   ·研究背景第68-69页
   ·计算方法第69-70页
   ·结果和讨论第70-79页
     ·元素化学势第70-71页
     ·缺陷形成能和热力学跃迁能级第71-76页
     ·本征缺陷引起的亚带隙光吸收第76-77页
     ·碱金属掺杂的Ta_3N_5第77-79页
   ·本章小结第79-80页
 参考文献第80-82页
第六章 Ag_2ZnSn(S_(1-x)Se_x)_4的电子结构和光催化性质第82-98页
   ·研究背景第82-83页
   ·计算方法第83-84页
   ·结果和讨论第84-95页
     ·Ag_2ZnSnS(Se)_4的电子结构第84-86页
     ·载流子有效质量第86-88页
     ·Se浓度对不同结构Ag_2ZnSn(S_(1-x)Se_x)_4光催化性质的调控第88-95页
   ·本章小结第95页
 参考文献第95-98页
第七章 总结与展望第98-100页
   ·主要的结论和创新点第98-99页
   ·展望第99-100页
致谢第100-102页
攻读学位期间发表的学术论文及参与的项目等第102-105页
 1 发表论文目录第102-103页
 2 参加的会议第103页
 3 参与的科研课题第103-105页
附录:攻读博士期间所发表的英文论文(原文)第105-124页
附件第124页

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