| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-12页 |
| 主要符号对照表 | 第12-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| ·研究背景与意义 | 第13-14页 |
| ·阻燃剂的简介 | 第14-15页 |
| ·基本概念与范畴 | 第14-15页 |
| ·分类 | 第15页 |
| ·氢氧化镁的物化性质和阻燃消烟机理 | 第15-16页 |
| ·氢氧化镁的物化性质 | 第15页 |
| ·氢氧化镁的阻燃消烟机理 | 第15-16页 |
| ·氢氧化镁阻燃剂的研究现状 | 第16-21页 |
| ·超细化 | 第17页 |
| ·表面改性 | 第17-19页 |
| ·晶形控制 | 第19-20页 |
| ·协同阻燃 | 第20页 |
| ·氢氧化镁阻燃剂的发展前景和研究展望 | 第20-21页 |
| ·论文的研究内容与创新点 | 第21-23页 |
| ·论文的研究内容 | 第21页 |
| ·创新点 | 第21-23页 |
| 第2章 实验原料、仪器及分析方法 | 第23-32页 |
| ·实验原料与仪器 | 第23-29页 |
| ·实验原料与仪器介绍 | 第23-25页 |
| ·主要设备简介 | 第25-29页 |
| ·分析测试方法 | 第29-32页 |
| ·吸油值 | 第29-30页 |
| ·吸光度 | 第30页 |
| ·红外光谱 | 第30页 |
| ·扫描电镜 | 第30页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第30页 |
| ·TG-DSC 综合热分析 | 第30-32页 |
| 第3章 氢氧化镁阻燃剂的表面改性研究 | 第32-55页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验方法 | 第32-33页 |
| ·实验方案 | 第32-33页 |
| ·实验技术路线 | 第33页 |
| ·氢氧化镁表面改性单因素实验的研究结果与讨论 | 第33-46页 |
| ·搅拌速率的影响 | 第33-35页 |
| ·改性时间的影响 | 第35-36页 |
| ·改性剂用量的影响 | 第36-37页 |
| ·改性温度的影响 | 第37-38页 |
| ·氢氧化镁浆料浓度的影响 | 第38-39页 |
| ·加料方式的影响 | 第39-41页 |
| ·表面改性剂类型的影响 | 第41-42页 |
| ·表面改性剂配比的影响 | 第42-43页 |
| ·陈化时间的影响 | 第43-45页 |
| ·洗涤次数的影响 | 第45-46页 |
| ·正交试验 | 第46-51页 |
| ·正交试验设计 | 第46页 |
| ·数据结果分析 | 第46-51页 |
| ·表面改性后氢氧化镁的理化性能分析 | 第51-54页 |
| ·疏水性 | 第51-52页 |
| ·吸光度分析 | 第52页 |
| ·SEM 分析 | 第52-53页 |
| ·红外谱图分析 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第4章 超临界 CO_2流体技术用于制备 Mg(OH)_2晶须的研究 | 第55-73页 |
| ·引言 | 第55-56页 |
| ·实验方法 | 第56-58页 |
| ·实验方案 | 第56-57页 |
| ·实验技术路线 | 第57-58页 |
| ·研究结果与讨论 | 第58-63页 |
| ·不同的超临界条件 | 第58-59页 |
| ·不同的溶剂 | 第59-60页 |
| ·不同的晶控剂 | 第60-62页 |
| ·不同时间 | 第62-63页 |
| ·数据结果分析 | 第63-68页 |
| ·XRD 分析 | 第63-65页 |
| ·TG 分析 | 第65-66页 |
| ·IR 分析 | 第66-68页 |
| ·SEM 分析 | 第68页 |
| ·超临界 CO_2流体环境下晶须生长机理 | 第68-71页 |
| ·晶体习性的影响因素 | 第68-69页 |
| ·碱式碳酸镁晶须的生长过程 | 第69页 |
| ·聚乙二醇的分散及模板作用 | 第69-70页 |
| ·超临界 CO_2流体环境对晶体生长的影响探讨 | 第70页 |
| ·水热转化反应机理探讨 | 第70-71页 |
| ·小结 | 第71-73页 |
| 第5章 微波水热法制备六方片状 Mg(OH)_2的研究 | 第73-82页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·实验方法 | 第73-74页 |
| ·实验方案 | 第73-74页 |
| ·实验技术路线 | 第74页 |
| ·研究结果与讨论 | 第74-78页 |
| ·不同的微波条件 | 第74-75页 |
| ·不同的时间 | 第75-76页 |
| ·不同的温度 | 第76-78页 |
| ·数据结果分析 | 第78-80页 |
| ·XRD 分析 | 第78-79页 |
| ·TG 分析 | 第79页 |
| ·IR 分析 | 第79-80页 |
| ·微波水热条件下晶体生长的机理探讨 | 第80-81页 |
| ·小结 | 第81-82页 |
| 第6章 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 作者简介 | 第88页 |