Zr基核材料的制备工艺、结构和性能研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-11页 |
第一章 绪论 | 第11-20页 |
·研究背景 | 第11-12页 |
·核材料分类 | 第12-15页 |
·核燃料 | 第13页 |
·包壳材料 | 第13页 |
·中子吸收(控制棒)材料 | 第13页 |
·冷却剂材料 | 第13页 |
·慢化剂和反射层材料 | 第13-14页 |
·堆内构件材料 | 第14页 |
·回路管道材料 | 第14页 |
·堆容器材料 | 第14页 |
·屏蔽材料 | 第14页 |
·安全壳材料 | 第14-15页 |
·Zr 合金的发展 | 第15-16页 |
·非晶合金简介 | 第16-19页 |
·非晶合金的发展 | 第16-18页 |
·非晶合金的特点 | 第18-19页 |
·本文的选题意义及研究内容 | 第19-20页 |
第二章 制备方法与测试方法 | 第20-27页 |
·制备方法 | 第20-21页 |
·磁控溅射法 | 第20-21页 |
·铜模铸造甩带法 | 第21页 |
·结构测试 | 第21-25页 |
·扫描电镜(SEM) | 第21-22页 |
·能谱仪(EDS) | 第22页 |
·X 射线衍射仪(XRD) | 第22页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM) | 第22页 |
·同步辐射 | 第22-25页 |
·性能测试 | 第25-26页 |
·纳米压入硬度测试仪 | 第25页 |
·划痕仪 | 第25-26页 |
·弯曲拉伸试验 | 第26页 |
·电化学腐蚀 | 第26页 |
·本章小结 | 第26-27页 |
第三章 共溅射法制备 Zr 基核材料及性能研究 | 第27-41页 |
·引言 | 第27页 |
·样品制备设备 | 第27-30页 |
·设备基本结构 | 第28-29页 |
·磁控溅射靶 | 第29页 |
·公自转行星基片台 | 第29页 |
·工控机人机界面自动/手动控制系统 | 第29-30页 |
·主要规格及技术参数 | 第30页 |
·样品的制备 | 第30-32页 |
·基片清洗 | 第31页 |
·操作步骤 | 第31页 |
·实验基本参数 | 第31-32页 |
·样品图 | 第32页 |
·实验结果分析与讨论 | 第32-40页 |
·扫描电镜(SEM)分析 | 第32-34页 |
·能谱(EDS)分析 | 第34-35页 |
·X 射线衍射(XRD)分析 | 第35-37页 |
·高分辨透射电子显微镜(HRTEM)分析 | 第37-38页 |
·纳米压痕分析 | 第38-40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第四章 合金靶溅射法制备锆基核材料及性能研究 | 第41-54页 |
·前沿 | 第41页 |
·成分鉴定 | 第41页 |
·结构测试与分析 | 第41-45页 |
·溅射功率对结构的影响与分析 | 第41-43页 |
·溅射时间对结构的影响与分析 | 第43页 |
·不同基底对结构的影响与分析 | 第43-44页 |
·不同溅射方式对结构的影响与分析 | 第44页 |
·溅射时间与厚度的关系 | 第44-45页 |
·性能测试与分析 | 第45-52页 |
·膜基结合力测量与分析 | 第45-46页 |
·薄膜的力学性能分析 | 第46-48页 |
·复合材料的力学性能分析 | 第48-50页 |
·电化学腐蚀分析 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
第五章 锆基非晶合金的同步辐射研究 | 第54-67页 |
·引言 | 第54页 |
·金属玻璃的结构参数 | 第54-55页 |
·数据处理 | 第55-57页 |
·XRD 实验数据处理 | 第55页 |
·EXAFS 实验数据处理 | 第55-56页 |
·RMC 拟合 | 第56-57页 |
·Voronoi 分形技术 | 第57页 |
·样品的制备与测试 | 第57-58页 |
·材料制备与常规测试 | 第57-58页 |
·同步辐射实验 | 第58页 |
·实验结果分析与讨论 | 第58-65页 |
·拟合分析 | 第58-60页 |
·Gr 谱分析 | 第60-61页 |
·键长分析 | 第61页 |
·团簇含量分析 | 第61-63页 |
·团簇体积分析 | 第63-65页 |
·本章小结 | 第65-67页 |
第六章 总结与展望 | 第67-69页 |
·总结 | 第67页 |
·展望 | 第67-69页 |
参考文献 | 第69-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第75页 |