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涂硼MRPC热中子探测器的研制

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-14页
   ·研究背景第10-11页
   ·国内外热中子探测器的研究情况第11-12页
   ·本文研究内容第12-14页
第二章 中子探测的基本理论第14-20页
   ·基本理论第14-18页
     ·中子源第14-15页
     ·中子探测的原理和方法第15-16页
     ·常用的热中子探测器第16-18页
   ·涂硼 MRPC 热中子探测器探测中子的原理第18-20页
     ·热中子转换体的选择第18-19页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器的基本结构第19-20页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器的工作原理第20页
第三章 涂硼 MRPC 热中子探测器性能的模拟第20-43页
   ·涂硼 MRPC 热中子探测器的 Maxwell 模拟第20-22页
     ·Maxwell 简单介绍第20-21页
     ·探测器气隙的电场的 Maxwell 模拟结果第21-22页
   ·涂硼 MRPC 热中子探测器的 Geant4 模拟第22-29页
     ·Geant4 程序简介第22-23页
     ·模拟的几何模型第23页
     ·模拟的物理机制第23页
     ·Geant4 模拟的结果及讨论第23-25页
     ·中子转换效率的理论验证第25-29页
     ·结论第29页
   ·涂硼 MRPC 热中子探测器的 Garfield 模拟第29-41页
     ·Garfield 介绍第30-31页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器电离参数的模拟第31-33页
     ·模拟过程第33-35页
     ·电离常用参数的模拟第35-40页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器性能参数的模拟第40-41页
     ·Garfield 程序模拟的结论第41页
   ·本章小结第41-43页
第四章 涂硼 MRPC 热中子探测器的制作第43-46页
   ·材料准备第43-44页
   ·探测器的装配第44-46页
第五章 涂硼 MRPC 热中子探测器性能的初步测试第46-54页
   ·探测器性能的测试系统第46页
   ·实验仪器的介绍第46-50页
     ·配气系统的建立第46-48页
     ·探测器测试盒第48页
     ·中子源第48-49页
     ·高压电源第49-50页
   ·实验的影响因素第50-52页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器气体室的均匀性第50-51页
     ·鱼丝线的油渍和镀膜的厚度第51页
     ·混合气体的不同比例第51-52页
     ·温度和电压第52页
   ·涂硼 MRPC 热中子探测器性能的测量第52-53页
     ·涂硼 MRPC 热中子探测器的输出信号第52-53页
   ·本章小结第53-54页
第六章 涂硼 MRPC 热中子探测器用于补偿中子测井的蒙卡研究第54-58页
   ·引言第54页
   ·常规条件及欠平衡条件下的补偿中子测井第54-55页
     ·补偿中子测井原理第54页
     ·常规条件及欠平衡条件下补偿中子测井第54-55页
   ·Geant4 计算模型第55页
   ·常规条件和欠平衡条件下的模拟结果第55-57页
     ·常规条件下的补偿中子测井模拟第55-56页
     ·欠平衡条件下的补偿中子测井模拟第56-57页
   ·本章小结第57-58页
第七章 总结与展望第58-59页
参考文献第59-63页
致谢第63-64页
硕士在学期间发表的学术论文第64页

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