PECVD制备光学薄膜折射率控制技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| ·PECVD技术原理 | 第9-11页 |
| ·PECVD技术在光学薄膜中的应用 | 第11-12页 |
| ·光学薄膜折射率控制的研究现状和意义 | 第12-15页 |
| ·PECVD制备光学薄膜的目前存在的问题 | 第15页 |
| ·本文研究主要内容 | 第15-16页 |
| ·研究工作的主要内容 | 第15-16页 |
| ·研究重点 | 第16页 |
| ·论文的章节安排 | 第16-17页 |
| 2 课题研究方案论证 | 第17-25页 |
| ·课题研究技术路线 | 第17-18页 |
| ·方案可行性论证 | 第18-25页 |
| ·PECVD制备光学薄膜稳定性实验 | 第18-19页 |
| ·光学薄膜检测技术 | 第19-23页 |
| ·实验条件 | 第23-25页 |
| 3 光学薄膜折射率容差 | 第25-37页 |
| ·膜系设计 | 第25-32页 |
| ·光学薄膜设计基础 | 第25-29页 |
| ·负滤光片简要设计 | 第29-32页 |
| ·膜系计算与误差分析软件设计 | 第32-34页 |
| ·MATLAB及MATLAB GUI简介 | 第32-33页 |
| ·膜系计算与偏差分析程序MATLAB GUI设计 | 第33-34页 |
| ·薄膜折射率容差计算 | 第34-37页 |
| 4 PECVD制备光学薄膜折射率控制研究 | 第37-54页 |
| ·控制折射率变化方法 | 第37-43页 |
| ·工艺参数对消光系数的影响 | 第37-38页 |
| ·折射率控制技术方案 | 第38-40页 |
| ·样片制备 | 第40-41页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第41-43页 |
| ·PECVD制备不同折射率薄膜折射率精度研究 | 第43-53页 |
| ·折射率1.40薄膜折射率精度 | 第43-44页 |
| ·折射率1.60薄膜折射率精度 | 第44-46页 |
| ·折射率1.80薄膜折射率精度 | 第46-47页 |
| ·折射率2.05薄膜折射率精度 | 第47-48页 |
| ·工艺参数控制范围 | 第48-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 5 PECVD制备光学薄膜膜厚精度研究 | 第54-59页 |
| ·高折射率光学薄膜膜厚精度研究 | 第54-55页 |
| ·低折射率光学薄膜膜厚精度研究 | 第55页 |
| ·梯度折射率光学薄膜的制造精度探析 | 第55-59页 |
| 6 结论 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
