| 第一章 引 言 | 第1-46页 |
| ·纳米材料的概况 | 第9-19页 |
| ·纳米材料的发展 | 第9-10页 |
| ·纳米材料分类 | 第10-11页 |
| ·纳米粒子的物理特性 | 第11-12页 |
| ·纳米粒子的光学特性 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的应用 | 第13-19页 |
| ·TiO2的制备方法及表征手段 | 第19-32页 |
| ·制备方法 | 第21-27页 |
| ·表征手段 | 第27-32页 |
| ·金属－半导体－金属(MSM)光电探测器原理 | 第32-40页 |
| ·MSM光电探测器的发展和特点 | 第33-35页 |
| ·MSM光电导探测器的结构和工作原理 | 第35-37页 |
| ·MSM探测器的主要参量及其物理意义 | 第37-40页 |
| ·本论文的主要内容 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 第二章 TiO2薄膜材料的制备及紫外光探测器的制作 | 第46-64页 |
| ·TiO2薄膜的制备 | 第46-48页 |
| ·TiO2溶胶的制备过程 | 第47页 |
| ·涂膜过程 | 第47-48页 |
| ·热处理过程 | 第48页 |
| ·TiO2薄膜的表征 | 第48-57页 |
| ·X－射线衍射分析(XRD) | 第48-51页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第51-53页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第53-55页 |
| ·紫外吸收光谱 | 第55-57页 |
| ·TiO2基MSM光电探测器的研制 | 第57-60页 |
| ·器件的制作 | 第57-58页 |
| ·器件性能测试 | 第58-60页 |
| ·小 结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第三章 复合氧化物MnxTi1-xO2薄膜材料的制备及表征 | 第64-97页 |
| ·MnxTi1-xO2薄膜的制备 | 第65-66页 |
| ·MnxTi1-xO2溶胶的制备过程 | 第65页 |
| ·涂膜过程 | 第65-66页 |
| ·热处理过程 | 第66页 |
| ·MnxTi1-xO2薄膜的表征 | 第66-85页 |
| ·X-射线衍射分析 (XRD) | 第67-72页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第72-76页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第76-78页 |
| ·紫外吸收光谱 | 第78-85页 |
| ·第一原理理论计算 | 第85-92页 |
| ·计算方法 | 第85-86页 |
| ·第一原理计算结果与讨论 | 第86-92页 |
| ·小 结 | 第92-94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 第四章 其他复合氧化物半导体材料的制备及表征 | 第97-130页 |
| ·SrxTi1-xO2薄膜的制备及表征 | 第97-109页 |
| ·SrxTi1-xO2薄膜的制备 | 第97-98页 |
| ·SrxTi1-xO2薄膜的表征 | 第98-109页 |
| ·LaxTi1-xO2薄膜的制备及表征 | 第109-121页 |
| ·LaxTi1-xO2薄膜的制备 | 第109-110页 |
| ·LaxTi1-xO2薄膜的表征 | 第110-121页 |
| ·NdxTi1-xO2薄膜的制备及表征 | 第121-127页 |
| ·NdxTi1-xO2薄膜的制备 | 第121-122页 |
| ·NdxTi1-xO2薄膜的表征 | 第122-127页 |
| ·小 结 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-130页 |
| 第五章 结 论 | 第130-133页 |
| 致谢 | 第133-134页 |
| 发表文章 | 第134-137页 |
| 中文摘要 | 第137-140页 |
| 英文摘要 | 第140-143页 |