基于批量型ALD平台的系统控制研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·原子层沉积技术概述 | 第9-11页 |
| ·原子层沉积(ALD)简介 | 第9页 |
| ·原子层沉积原理 | 第9-11页 |
| ·ALD系统发展情况 | 第11-13页 |
| ·本文的主要内容与技术改进 | 第13-17页 |
| ·主要内容 | 第14-15页 |
| ·技术改进 | 第15-17页 |
| 第二章 批量型ALD控制系统方案 | 第17-27页 |
| ·工业控制自动化简介 | 第17-19页 |
| ·工业PC的发展 | 第17页 |
| ·PLC的发展 | 第17-18页 |
| ·DCS系统 | 第18页 |
| ·现场总线控制系统(FCS) | 第18-19页 |
| ·批量型ALD控制系统方案 | 第19-20页 |
| ·B&R可编程控制器简介 | 第20-25页 |
| ·可编程控制器简介 | 第20-22页 |
| ·可编程控制器工作原理 | 第22-23页 |
| ·可编程控制器特点 | 第23-24页 |
| ·B&R PLC简介 | 第24-25页 |
| ·人机交互界面系统概述 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 批量型ALD控制系统设计方案及设备选型 | 第27-41页 |
| ·批量型ALD控制系统总体架构 | 第27-28页 |
| ·批量型ALD控制系统设备选型 | 第28-29页 |
| ·下位机功能模块选型 | 第28-29页 |
| ·上位机选型 | 第29页 |
| ·电气控制系统分析 | 第29-36页 |
| ·主控电路分析 | 第31-33页 |
| ·PLC信号控制电路分析 | 第33-35页 |
| ·控制柜布局 | 第35-36页 |
| ·腔室真空度控制 | 第36-37页 |
| ·温度控制 | 第37-38页 |
| ·腔体动能控制 | 第38-39页 |
| ·系统预警 | 第39-40页 |
| ·系统控制干扰分析 | 第39-40页 |
| ·系统抗干扰措施 | 第40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 批量型ALD控制系统下位机分析及设计 | 第41-57页 |
| ·下位机整机架构分析 | 第41-42页 |
| ·手动控制模式 | 第41页 |
| ·自动控制模式 | 第41-42页 |
| ·腔室真空度控制分析 | 第42-44页 |
| ·真空泵组控制信号配置 | 第43页 |
| ·MFC及充气流量分析 | 第43-44页 |
| ·腔室真空度算法分析 | 第44页 |
| ·温控分析 | 第44-48页 |
| ·温控原理 | 第44-46页 |
| ·温控算法分析 | 第46-48页 |
| ·腔体动能控制分析 | 第48-50页 |
| ·腔体动能模块算法 | 第48-49页 |
| ·腔体动能模块编码 | 第49-50页 |
| ·配方控制分析 | 第50-52页 |
| ·连续模式 | 第50-51页 |
| ·脉冲模式 | 第51-52页 |
| ·报警信号处理 | 第52-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 批量型ALD控制系统上位机人机交互分析 | 第57-65页 |
| ·上位机人机交互架构 | 第57-58页 |
| ·Wonderware简介 | 第57页 |
| ·组态程序架构 | 第57-58页 |
| ·系统初始化组态界面 | 第58页 |
| ·系统主控界面 | 第58-62页 |
| ·系统模式配置界面 | 第62页 |
| ·配方组态界面 | 第62-64页 |
| ·系统报警组态界面 | 第64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第六章 批量型ALD控制系统工艺检测分析 | 第65-71页 |
| ·工艺实验流程 | 第65-66页 |
| ·实验结果及分析 | 第66-69页 |
| ·工艺控制参数监测 | 第66-67页 |
| ·工艺效果监测 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第七章 总结与展望 | 第71-73页 |
| ·文章总结 | 第71页 |
| ·后期展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 研究成果 | 第79-80页 |
| 附录A | 第80-82页 |
| 附录B | 第82页 |
