| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·粒子加速器简介 | 第12-15页 |
| ·粒子加速器的发展概况 | 第12-13页 |
| ·粒子加速器的组成 | 第13-14页 |
| ·粒子加速器真空系统的特点 | 第14-15页 |
| ·分布式抽气 | 第15-19页 |
| ·分布式离子泵 | 第16-17页 |
| ·NEG 条带 | 第17页 |
| ·NEG 薄膜 | 第17-18页 |
| ·低温表面 | 第18-19页 |
| ·NEG 材料的应用 | 第19-22页 |
| ·课题意义和论文内容 | 第22-24页 |
| 第二章 相关理论和介绍 | 第24-42页 |
| ·非蒸散型吸气剂简介 | 第24-27页 |
| ·吸气剂的分类 | 第24-25页 |
| ·吸气剂的吸气过程 | 第25-26页 |
| ·NEG 的激活 | 第26-27页 |
| ·镀膜方法 | 第27-34页 |
| ·真空镀膜 | 第27-29页 |
| ·气体放电 | 第29-32页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第32-34页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第34-37页 |
| ·薄膜的分析与表征 | 第37-42页 |
| ·组分表征 | 第37-40页 |
| ·薄膜形貌和结构 | 第40-42页 |
| 第三章 真空室内壁镀 TiZrV 薄膜及其结果分析 | 第42-66页 |
| ·NEG 薄膜材料的选择 | 第42-45页 |
| ·镀膜装置 | 第45-51页 |
| ·镀膜方式的选择 | 第45页 |
| ·镀膜装置的组成 | 第45-46页 |
| ·镀膜装置的磁铁设计 | 第46-49页 |
| ·镀膜装置的放电特性 | 第49-51页 |
| ·实验过程 | 第51-54页 |
| ·实验参数的确定 | 第51-53页 |
| ·实验过程 | 第53-54页 |
| ·实验结果和分析 | 第54-62页 |
| ·直流溅射与磁控溅射的对比 | 第55-56页 |
| ·薄膜成分 | 第56-58页 |
| ·薄膜形貌 | 第58-59页 |
| ·薄膜的微观结构 | 第59-60页 |
| ·镀膜速率的计算 | 第60-62页 |
| ·合肥光源波荡器真空室的镀膜处理 | 第62-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第四章 TiZrV 的二次电子产额研究 | 第66-76页 |
| ·背景介绍 | 第66-68页 |
| ·电子云效应的抑制 | 第66-67页 |
| ·二次电子发射 | 第67-68页 |
| ·测量原理和方法 | 第68-70页 |
| ·二次电子产额的测量 | 第70-74页 |
| ·测量装置 | 第70-72页 |
| ·测量过程 | 第72页 |
| ·测量结果和分析 | 第72-73页 |
| ·装置所需的改进 | 第73-74页 |
| ·小结 | 第74-76页 |
| 第五章 TiZrV 的光致解吸研究 | 第76-88页 |
| ·常用测量方法 | 第76-80页 |
| ·三规法 | 第76-79页 |
| ·小孔流导法 | 第79-80页 |
| ·PSD 产额的测量和计算 | 第80-84页 |
| ·测量系统 | 第80-81页 |
| ·测试过程 | 第81-82页 |
| ·光子通量的计算 | 第82-84页 |
| ·测量结果和分析 | 第84-87页 |
| ·小结 | 第87-88页 |
| 第六章 TiZrV 薄膜的吸气性能研究 | 第88-100页 |
| ·吸气性能的测量方法 | 第88-91页 |
| ·吸气剂样品吸气性能的测量 | 第88-90页 |
| ·镀膜管道吸气性能的测量 | 第90-91页 |
| ·TiZrV 吸气剂吸气性能的测量 | 第91-96页 |
| ·测量装置 | 第91-92页 |
| ·测试气体的选择 | 第92-93页 |
| ·抽速和吸气容量的计算 | 第93-94页 |
| ·烘烤除气与吸气剂的激活 | 第94-96页 |
| ·实验结果和分析 | 第96-99页 |
| ·小结 | 第99-100页 |
| 第七章 总结与展望 | 第100-102页 |
| ·总结 | 第100-101页 |
| ·展望 | 第101-102页 |
| 参考文献 | 第102-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 在读期间发表的学术论文 | 第115-116页 |