GaAs基片吸附脱附的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 1. 绪论 | 第7-14页 |
| ·光电阴极发展概述 | 第7-8页 |
| ·GaAs光电阴极 | 第8-10页 |
| ·GaAs光电阴极国外研究现状 | 第8-9页 |
| ·GaAs光电阴极国内研究现状 | 第9-10页 |
| ·GaAs光电阴极吸附脱附机理 | 第10-12页 |
| ·GaAs光电阴极的制备 | 第10-12页 |
| ·吸附脱附理论 | 第12页 |
| ·本文的研究背景及意义 | 第12-13页 |
| ·本文的主要工作 | 第13-14页 |
| 2. 超高真空系统除气的研究 | 第14-23页 |
| ·真空泵 | 第14-16页 |
| ·固体对气体的吸附原理 | 第16-18页 |
| ·物理吸附力 | 第16-18页 |
| ·化学吸附力 | 第18页 |
| ·超高真空的获取 | 第18-21页 |
| ·气体质谱分析 | 第21-23页 |
| 3. GaAs基片高温清洗工艺 | 第23-32页 |
| ·气体在固体中的吸附、溶解和扩散 | 第23-24页 |
| ·高温加热清洗工艺 | 第24-26页 |
| ·GaAs基片高温清洗过程中的吸附脱附 | 第26-32页 |
| ·常见气体的分析 | 第26-30页 |
| ·镓、砷元素的分析 | 第30-32页 |
| 4. GaAs表面铯氧吸附的研究 | 第32-43页 |
| ·激活系统 | 第32-36页 |
| ·超高真空系统 | 第33-34页 |
| ·表面分析系统 | 第34-35页 |
| ·残气分析系统 | 第35-36页 |
| ·铯氧吸附模型 | 第36-39页 |
| ·铯氧源电流的控制 | 第39-43页 |
| 5. 超高真空系统中GaAs光电阴极的寿命 | 第43-53页 |
| ·阴极稳定性的研究 | 第43-46页 |
| ·重新进Cs后阴极稳定性 | 第46-48页 |
| ·阴极衰减量的表征 | 第48-53页 |
| ·变角XPS分析技术 | 第48-50页 |
| ·变角XPS分析阴极寿命 | 第50-53页 |
| 6. 结束语 | 第53-54页 |
| ·本文的工作总结 | 第53页 |
| ·有待进一步开展的工作 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 附录 | 第60页 |
