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分布反馈式激光器中的光学布洛赫波和半导体激光器的理论、结构和工艺创新探索研究

致谢第1-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-12页
1. 绪论第12-38页
 本章提要第12页
   ·引言第12-19页
     ·半导体激光器发展简介第12-13页
     ·半导体激光器的材料第13-15页
     ·半导体激光器的谐振腔第15-19页
   ·光通讯系统中的单波长半导体激光器第19-22页
     ·DFB激光器第20页
     ·VCSEL激光器第20-21页
     ·DM激光器第21-22页
   ·光通讯系统中的可调谐半导体激光器第22-34页
     ·可调谐激光器原理第23-24页
     ·大范围可调谐激光器第24-34页
   ·论文主要内容及创新点第34-38页
     ·论文主要内容第34-35页
     ·论文主要创新点第35-38页
2. 分布反馈式激光器中的光学布洛赫波理论第38-64页
 本章提要第38页
   ·分布反馈式半导体激光器的光子寿命第38-39页
     ·DFB激光器的速率方程与光子寿命第38-39页
   ·DFB激光器的数值模拟方法第39-44页
     ·耦合波方法第39-42页
     ·传输矩阵方法第42-44页
   ·布洛赫波方法第44-62页
     ·无限周期性DFB结构中电磁场的布洛赫波形式第44-49页
     ·有限周期性DFB结构中电磁场的布洛赫波形式第49-52页
     ·DFB激光器阈值和光子寿命的布洛赫波计算形式第52-56页
     ·数值模拟结果以及讨论验证第56-62页
   ·小结第62-64页
3 半波耦合环形谐振腔可调谐激光器第64-84页
 本章提要第64页
   ·环形谐振腔可调谐半导体激光器研究背景第64-65页
   ·耦合腔可调谐激光器第65-66页
   ·半波耦合环形半导体激光器第66-73页
   ·利用多模干涉器实现半波耦合器第73-75页
   ·单侧半波耦合环形激光器的实验第75-78页
   ·单侧半波耦合双环激光器的理论分析第78-83页
   ·小结第83-84页
4 半导体激光器工艺研究和创新第84-112页
 本章提要第84页
   ·刻蚀槽半导体激光器第84-85页
   ·深亚微米刻蚀槽理论模拟第85-90页
     ·深亚微米刻蚀槽第86-90页
   ·深亚微米刻蚀槽激光器工艺研发第90-105页
     ·深亚微米刻蚀槽工艺第90-92页
     ·单波长深亚微米刻蚀槽激光器理论设计第92页
     ·单波长深亚微米刻蚀槽激光器实验结果第92-104页
     ·可调谐深亚微米刻蚀槽激光器第104-105页
   ·DFB激光器的平坦化工艺研究第105-110页
     ·平坦化方法介绍第105-106页
     ·实验中遇到的平坦化问题第106页
     ·有机物辅助二氧化硅平坦化方法第106-110页
   ·小结第110-112页
总结与展望第112-114页
参考文献第114-122页
作者简介第122-123页

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