| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-17页 |
| ·课题背景、价值及意义 | 第8-9页 |
| ·课题的研究历史、现状及存在的问题 | 第9-15页 |
| ·本论文的主要工作 | 第15-17页 |
| 第二章 碳纳米管及其场致发射性能 | 第17-26页 |
| ·碳纳米管概述 | 第17-19页 |
| ·碳纳米管制备方法 | 第19-20页 |
| ·金属场发射基本理论 | 第20-22页 |
| ·碳纳米管的场致发射性能 | 第22-25页 |
| ·碳纳米管的场致发射原理 | 第22-24页 |
| ·碳纳米管薄膜场致发射阴极 | 第24-25页 |
| ·影响碳纳米管场发射性能的因素 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 碳纳米管场发射微束阵列的制备 | 第26-49页 |
| ·碳纳米管微束阵列的制备工艺 | 第26-35页 |
| ·基片清洗 | 第27-28页 |
| ·光刻工艺 | 第28-30页 |
| ·催化剂层的制备 | 第30-32页 |
| ·制备碳纳米管微束阵列 | 第32-35页 |
| ·影响碳纳米管微束形态的因素 | 第35-46页 |
| ·催化剂的厚度和材料对碳纳米管微束形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·衬底温度对碳纳米管微束的影响 | 第37-40页 |
| ·生长时间对碳纳米管形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·催化剂结构对碳纳米管微束的影响 | 第41-43页 |
| ·衬底材料对碳纳米管微束的影响 | 第43-46页 |
| ·衬底与碳纳米管的粘附性 | 第46页 |
| ·其他工艺对碳纳米管阵列制备的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 用于太赫兹真空器件的阴极组件的仿真 | 第49-59页 |
| ·电磁仿真软件的简介 | 第49-50页 |
| ·太赫兹器件中场发射阴极的简介和阴极的栅极结构设计 | 第50-58页 |
| ·场发射阴极的简介和模型的建立 | 第50-52页 |
| ·仿真结果及讨论 | 第52-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 碳纳米管场致发射阴极的测试 | 第59-69页 |
| ·太赫兹器件中阴极的简介 | 第59-60页 |
| ·场致发射测试系统简介 | 第60-62页 |
| ·碳纳米管微束样品退火及其外栅极阴极场发射测试 | 第62-68页 |
| ·样品的退火工艺 | 第62-64页 |
| ·碳纳米管微束阵列的外栅极阴极场发射测试 | 第64-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 结束语 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 攻硕期间取得的成果 | 第75页 |