摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-20页 |
·纳米球光刻简介 | 第8-12页 |
·自组装技术基本原理 | 第9-11页 |
·纳米球光刻应用 | 第11-12页 |
·碳纳米管简介 | 第12-17页 |
·碳纳米管的类型与结构 | 第13-15页 |
·碳纳米管的性能 | 第15-17页 |
·碳纳米管的应用 | 第17页 |
·研究内容和创新性说明 | 第17-20页 |
·纳米球光刻 | 第17-18页 |
·热CVD制备碳纳米管的安全方法 | 第18-20页 |
第二章 纳米球光刻 | 第20-32页 |
·纳米微球模板简介及制备方法 | 第20-21页 |
·方法选择前期准备 | 第21-25页 |
·原料及设备 | 第21-23页 |
·设备及其使用方法 | 第23-25页 |
·制备PS球单层模板的工艺 | 第25-30页 |
·真空清洗工艺 | 第25-27页 |
·自组装单层PS微球模板的工艺 | 第27-30页 |
·本章小结 | 第30-32页 |
第三章 单层聚苯乙烯胶体微球模板的SEM表征与分析 | 第32-48页 |
·单层PS胶体球的表征 | 第32-34页 |
·影响模板的质量的因素的讨论 | 第34-42页 |
·洁净度对模板质量的影响 | 第34-37页 |
·溶剂对模板的影响 | 第37页 |
·拉膜速度影响模板形状 | 第37-39页 |
·PS球溶液及表面活性剂影响模板质量 | 第39-40页 |
·干燥过程对模板形貌的影响 | 第40-41页 |
·基底对模板质量的影响 | 第41-42页 |
·利用纳米球光刻技术制备催化剂颗粒阵列 | 第42-47页 |
·磁控溅射镀膜原理 | 第42-44页 |
·磁控溅射镀膜的操作流程 | 第44-45页 |
·去除PS球模板的方法 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 利用乙醇/丙酮蒸汽作为碳源热CVD生长碳纳米管 | 第48-66页 |
·碳纳米管的生长及制备 | 第48-49页 |
·碳纳米管的生长机制 | 第49-51页 |
·一种简单安全的、大规模生长碳纳米管的方法—改良的热CVD | 第51-56页 |
·基片选择 | 第51页 |
·基片准备 | 第51-52页 |
·试验流程 | 第52-53页 |
·实验条件摸索及对比 | 第53-56页 |
·表征分析 | 第56-64页 |
·SEM简介 | 第56-57页 |
·反应条件对碳纳米管的影响分析表征 | 第57-63页 |
·样品的场发射特性 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-66页 |
第五章 结论和展望 | 第66-68页 |
·结论 | 第66-67页 |
·展望 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-72页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第72页 |