| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-39页 |
| ·有机薄膜晶体管的结构及运行模式 | 第10-13页 |
| ·有机薄膜晶体管的性能参数 | 第13-16页 |
| ·载流子迁移率 | 第13-14页 |
| ·开关电流比 | 第14-15页 |
| ·阈值电压 | 第15页 |
| ·亚阈值摆幅 | 第15-16页 |
| ·有机半导体材料 | 第16-34页 |
| ·p 型有机半导体材料 | 第17-29页 |
| ·n 型有机半导体材料 | 第29-33页 |
| ·双极性有机半导体材料 | 第33-34页 |
| ·有机薄膜晶体管的制备技术 | 第34-36页 |
| ·有机薄膜晶体管的应用 | 第36-37页 |
| ·本课题的提出和创新点 | 第37-39页 |
| ·课题的提出 | 第37-38页 |
| ·创新点 | 第38-39页 |
| 第二章 四氟邻苯二甲腈的合成及表征 | 第39-52页 |
| ·主要原料与试剂 | 第39-40页 |
| ·主要实验仪器 | 第40页 |
| ·四氟邻苯二甲腈的合成 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-51页 |
| ·四氟邻苯二甲腈合成工艺优化 | 第41-47页 |
| ·四氟邻苯二甲腈结构表征 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第三章 全氟金属酞菁的合成及表征 | 第52-67页 |
| ·主要原料与试剂 | 第53-54页 |
| ·主要实验仪器 | 第54页 |
| ·全氟金属酞菁的合成 | 第54-57页 |
| ·全氟酞菁铜的合成 | 第55-56页 |
| ·全氟酞菁钴的合成 | 第56页 |
| ·全氟酞菁镍的合成 | 第56页 |
| ·全氟酞菁锌的合成 | 第56页 |
| ·全氟酞菁铁的合成 | 第56-57页 |
| ·全氟酞菁氯锡的合成 | 第57页 |
| ·全氟酞菁氧钒的合成 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-66页 |
| ·全氟金属酞菁的合成 | 第57-59页 |
| ·全氟金属酞菁的提纯 | 第59-61页 |
| ·全氟金属酞菁结构表征 | 第61-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 第四章 全氟金属酞菁的性能研究 | 第67-83页 |
| ·主要原料与试剂 | 第67页 |
| ·主要实验仪器 | 第67-68页 |
| ·全氟金属酞菁的紫外-可见吸收光谱 | 第68-77页 |
| ·全氟金属酞菁在不同溶剂中的紫外-可见吸收光谱 | 第68-76页 |
| ·全氟金属酞菁固体薄膜的紫外-可见吸收光谱 | 第76-77页 |
| ·全氟金属酞菁的荧光发射谱 | 第77-79页 |
| ·全氟金属酞菁在邻二氯苯中的荧光发射谱及荧光量子效率 | 第77-78页 |
| ·全氟金属酞菁固体薄膜的荧光发射谱 | 第78-79页 |
| ·全氟金属酞菁热稳定性表征 | 第79-80页 |
| ·全氟金属酞菁的电化学性能 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第五章 全氟金属酞菁在有机薄膜晶体管中的初步应用 | 第83-96页 |
| ·主要原料 | 第83页 |
| ·主要实验仪器 | 第83-84页 |
| ·基于平面全氟金属酞菁的 OTFTS 器件 | 第84-92页 |
| ·基于 CuPcF_(16)的 OTFTs 器件 | 第85-88页 |
| ·基于 ZnPcF_(16)的 OTFTs 器件 | 第88-91页 |
| ·基于 CoPcF_(16)的 OTFTs 器件 | 第91-92页 |
| ·基于轴向配位全氟金属酞菁的 OTFTS 器件 | 第92-95页 |
| ·基于 VOPcF_(16)的 OTFTs 器件 | 第93-94页 |
| ·基于 SnCl_2PcF_(16)的 OTFTs 器件 | 第94-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第六章 结论 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-111页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 附录 | 第113-125页 |