小型CVD金刚石热沉片的制备研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·微电子及其热沉技术 | 第11-17页 |
| ·微电子热沉特性 | 第12-14页 |
| ·微电子热沉材料 | 第14-17页 |
| ·金刚石与微电子热沉 | 第17-21页 |
| ·金刚石性能 | 第17-18页 |
| ·CVD 金刚石膜的发展与研究现状 | 第18-19页 |
| ·金刚石热沉片的研究现状 | 第19-21页 |
| ·本课题的研究意义和主要内容 | 第21-23页 |
| 第二章 金刚石热沉制备流场、温度场研究 | 第23-37页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·CFD 方法和仿真软件简介 | 第23-24页 |
| ·衬底流场和温度场 | 第24-28页 |
| ·有限元模型 | 第24-25页 |
| ·网格划分 | 第25-27页 |
| ·边界条件及求解设置 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-35页 |
| ·气体流速 v 的影响 | 第28-30页 |
| ·灯丝与衬底的距离 db的影响 | 第30-32页 |
| ·灯丝之间的距离 df的影响 | 第32-34页 |
| ·灯丝温度 T 的影响 | 第34-35页 |
| ·金刚石热沉片沉积参数的选择 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 小型 CVD 金刚石热沉片制备研究 | 第37-48页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·模具的选择与制备 | 第37-39页 |
| ·模具材料的选择 | 第37-38页 |
| ·硅模具的制备 | 第38-39页 |
| ·刻蚀结果与讨论 | 第39页 |
| ·金刚石热沉片制备 | 第39-45页 |
| ·实验装置 | 第40-41页 |
| ·硅模具的预处理 | 第41页 |
| ·灯丝的选择与碳化 | 第41-42页 |
| ·制备工艺参数 | 第42-44页 |
| ·衬底材料的去除 | 第44-45页 |
| ·实验结果与讨论 | 第45-47页 |
| ·生长速度 | 第45-46页 |
| ·金刚石热沉片 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 CVD 金刚石热沉片的热导率研究 | 第48-59页 |
| ·引言 | 第48页 |
| ·导热系数测试 | 第48-49页 |
| ·实验结果与分析 | 第49-58页 |
| ·金刚石导热系数 | 第49页 |
| ·金刚石厚度与导热系数 | 第49-50页 |
| ·碳源浓度与导热系数 | 第50-51页 |
| ·CVD 金刚石传热及其阻热效应 | 第51-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
| ·总结 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第67页 |
