中文摘要 | 第1-14页 |
ABSTRACT | 第14-20页 |
符号说明 | 第20-23页 |
第一章 绪论 | 第23-42页 |
·集成光学与光波导 | 第23-24页 |
·光波导的形成方法 | 第24-26页 |
·离子注入技术的优点 | 第26-27页 |
·离子注入非线性光学晶体折射率分布模型研究 | 第27-32页 |
·论文的研究内容与安排 | 第32-35页 |
参考文献 | 第35-42页 |
第二章 光波导基本理论 | 第42-54页 |
·介质波导的结构类型 | 第43-45页 |
·平板光波导的射线光学分析 | 第45-47页 |
·平板光波导的波动方程分析 | 第47-51页 |
·光波导的归一化参量 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-54页 |
第三章 实验方法 | 第54-68页 |
·离子注入技术 | 第55-57页 |
·离子注入技术简介 | 第55-56页 |
·加速器工作原理简介 | 第56-57页 |
·卢瑟福背散射/沟道分析技术 | 第57-67页 |
·卢瑟福背散射分析的原理 | 第57-58页 |
·卢瑟福背散射中的基本物理概念 | 第58-62页 |
·运动学因子 | 第58-59页 |
·散射截面 | 第59-60页 |
·能量损失和阻止截面 | 第60-62页 |
·道数与能量的转换 | 第62-63页 |
·沟道分析技术 | 第63-65页 |
·沟道效应测量晶格损伤 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-68页 |
第四章 棱镜耦合法测量波导特性 | 第68-89页 |
·棱镜耦合法基本原理及装置 | 第69-72页 |
·棱镜耦合法基本原理 | 第69-70页 |
·棱镜耦合装置 | 第70-72页 |
·棱镜耦合系统中光转移矩阵描述法 | 第72-78页 |
·不同折射率分布下的暗模特性研究 | 第78-86页 |
·反射率计算方法拟合折射率分布 | 第78-79页 |
·折射率分布对暗模特性的影响 | 第79-85页 |
·近表面位垒折射率分布对暗模特性的影响 | 第85-86页 |
·本章小结 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-89页 |
第五章 离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型研究 | 第89-111页 |
·离子注入铌酸锂晶体应变变化规律研究 | 第90-95页 |
·应力与应变相关概念介绍 | 第90-91页 |
·离子注入铌酸锂晶体应变变化规律研究 | 第91-95页 |
·离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型的建立 | 第95-97页 |
·离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型的验证 | 第97-102页 |
·离子注入不同切向铌酸锂光波导折射率改变规律研究 | 第102-106页 |
·本章小结 | 第106-108页 |
参考文献 | 第108-111页 |
第六章 低能高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导的研究 | 第111-133页 |
·300 keV高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导研究 | 第112-115页 |
·实验过程 | 第112页 |
·结果与讨论 | 第112-115页 |
·150 keV高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导退火特性研究 | 第115-121页 |
·实验过程 | 第115-116页 |
·结果与讨论 | 第116-121页 |
·He离子注入KTP晶体退火过程中气泡形成研究 | 第121-127页 |
·实验过程 | 第121页 |
·结果与讨论 | 第121-127页 |
·本章小结 | 第127-128页 |
参考文献 | 第128-133页 |
第七章 离子注入KTP光波导折射率改变模型研究 | 第133-152页 |
·离子注入KTP光波导折射率改变模型的建立 | 第134-138页 |
·离子注入KTP光波导折射率改变模型的验证 | 第138-141页 |
·离子注入KTP光波导折射率改变规律研究 | 第141-147页 |
·低能量He离子注入KTP后折射率分布规律研究 | 第141-145页 |
·离子注入不同切向KTP折射率变化规律研究 | 第145-147页 |
·本章小结 | 第147-149页 |
参考文献 | 第149-152页 |
第八章 总结 | 第152-158页 |
·主要内容与成果 | 第153-155页 |
·主要创新点 | 第155-156页 |
·问题与建议 | 第156-158页 |
致谢 | 第158-159页 |
博士期间参与的项目和发表的论文 | 第159-161页 |
附 英文论文两篇 | 第161-169页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第169页 |