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离子注入非线性光学晶体光波导折射率改变模型研究

中文摘要第1-14页
ABSTRACT第14-20页
符号说明第20-23页
第一章 绪论第23-42页
   ·集成光学与光波导第23-24页
   ·光波导的形成方法第24-26页
   ·离子注入技术的优点第26-27页
   ·离子注入非线性光学晶体折射率分布模型研究第27-32页
   ·论文的研究内容与安排第32-35页
 参考文献第35-42页
第二章 光波导基本理论第42-54页
   ·介质波导的结构类型第43-45页
   ·平板光波导的射线光学分析第45-47页
   ·平板光波导的波动方程分析第47-51页
   ·光波导的归一化参量第51-53页
 参考文献第53-54页
第三章 实验方法第54-68页
   ·离子注入技术第55-57页
     ·离子注入技术简介第55-56页
     ·加速器工作原理简介第56-57页
   ·卢瑟福背散射/沟道分析技术第57-67页
     ·卢瑟福背散射分析的原理第57-58页
     ·卢瑟福背散射中的基本物理概念第58-62页
       ·运动学因子第58-59页
       ·散射截面第59-60页
       ·能量损失和阻止截面第60-62页
     ·道数与能量的转换第62-63页
     ·沟道分析技术第63-65页
     ·沟道效应测量晶格损伤第65-67页
 参考文献第67-68页
第四章 棱镜耦合法测量波导特性第68-89页
   ·棱镜耦合法基本原理及装置第69-72页
     ·棱镜耦合法基本原理第69-70页
     ·棱镜耦合装置第70-72页
   ·棱镜耦合系统中光转移矩阵描述法第72-78页
   ·不同折射率分布下的暗模特性研究第78-86页
     ·反射率计算方法拟合折射率分布第78-79页
     ·折射率分布对暗模特性的影响第79-85页
     ·近表面位垒折射率分布对暗模特性的影响第85-86页
   ·本章小结第86-88页
 参考文献第88-89页
第五章 离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型研究第89-111页
   ·离子注入铌酸锂晶体应变变化规律研究第90-95页
     ·应力与应变相关概念介绍第90-91页
     ·离子注入铌酸锂晶体应变变化规律研究第91-95页
   ·离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型的建立第95-97页
   ·离子注入铌酸锂光波导折射率改变模型的验证第97-102页
   ·离子注入不同切向铌酸锂光波导折射率改变规律研究第102-106页
   ·本章小结第106-108页
 参考文献第108-111页
第六章 低能高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导的研究第111-133页
   ·300 keV高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导研究第112-115页
     ·实验过程第112页
     ·结果与讨论第112-115页
   ·150 keV高剂量氦离子注入KTP晶体平面光波导退火特性研究第115-121页
     ·实验过程第115-116页
     ·结果与讨论第116-121页
   ·He离子注入KTP晶体退火过程中气泡形成研究第121-127页
     ·实验过程第121页
     ·结果与讨论第121-127页
   ·本章小结第127-128页
 参考文献第128-133页
第七章 离子注入KTP光波导折射率改变模型研究第133-152页
   ·离子注入KTP光波导折射率改变模型的建立第134-138页
   ·离子注入KTP光波导折射率改变模型的验证第138-141页
   ·离子注入KTP光波导折射率改变规律研究第141-147页
     ·低能量He离子注入KTP后折射率分布规律研究第141-145页
     ·离子注入不同切向KTP折射率变化规律研究第145-147页
   ·本章小结第147-149页
 参考文献第149-152页
第八章 总结第152-158页
   ·主要内容与成果第153-155页
   ·主要创新点第155-156页
   ·问题与建议第156-158页
致谢第158-159页
博士期间参与的项目和发表的论文第159-161页
附 英文论文两篇第161-169页
学位论文评阅及答辩情况表第169页

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