| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·ZnO半导体光催化剂 | 第10-11页 |
| ·ZnO光催化剂的制备方法 | 第11-12页 |
| ·ZnO光催化研究现状 | 第12-17页 |
| ·ZnO光催化氧化有机物研究进展 | 第12-13页 |
| ·提高ZnO光催化性能的方法 | 第13-14页 |
| ·影响ZnO光催化性能的环境因素 | 第14-16页 |
| ·ZnO光催化剂的负载 | 第16-17页 |
| ·课题的提出和研究内容 | 第17-18页 |
| ·课题的目的与意义 | 第17页 |
| ·本论文的主要工作 | 第17-18页 |
| 第二章 ZnO薄膜的制备与表征 | 第18-28页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·实验药品及仪器 | 第18页 |
| ·检测仪器 | 第18-19页 |
| ·ZnO溶胶的配置 | 第19页 |
| ·基底的清洗 | 第19-20页 |
| ·镀膜与热处理 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的表征 | 第21-27页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第21-22页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第22-23页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第23-24页 |
| ·差热-热重分析(DSC-TGA) | 第24-25页 |
| ·傅立叶红外光谱分析(FTIR) | 第25-26页 |
| ·紫外可见吸收光谱分析(UV-VIS) | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 ZnO薄膜的光催化性能研究 | 第28-40页 |
| ·ZnO光催化机理概述 | 第28-30页 |
| ·实验方法 | 第30-32页 |
| ·实验装置 | 第30页 |
| ·偶氮胭脂红溶液标准曲线的绘制 | 第30-31页 |
| ·紫外光空白实验 | 第31页 |
| ·光催化实验 | 第31-32页 |
| ·实验结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·正交实验结果及直观分析 | 第32-33页 |
| ·溶液初始浓度的影响 | 第33-34页 |
| ·退火温度的影响 | 第34-35页 |
| ·镀膜层数的影响 | 第35-36页 |
| ·pH值的影响 | 第36-37页 |
| ·光催化反应动力学分析 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 ZnO薄膜的改性及光催化性能研究 | 第40-52页 |
| ·La~(3+)改性及光催化性能研究 | 第40-45页 |
| ·La~(3+)掺杂ZnO薄膜的制备 | 第40页 |
| ·La~(3+)掺杂ZnO薄膜的表征 | 第40-43页 |
| ·La~(3+)掺杂ZnO薄膜的光催化性能 | 第43-45页 |
| ·Fe~(3+)改性及光催化性能研究 | 第45-51页 |
| ·Fe~(3+)掺杂ZnO薄膜的制备 | 第45页 |
| ·Fe~(3+)掺杂ZnO薄膜的表征 | 第45-48页 |
| ·Fe~(3+)掺杂ZnO薄膜的光催化性能 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 电场协助对ZnO/ITO薄膜光催化性能的影响 | 第52-59页 |
| ·实验装置 | 第52页 |
| ·实验设计 | 第52页 |
| ·电场协助光催化基本原理 | 第52-54页 |
| ·ZnO/ITO薄膜的表征 | 第54-55页 |
| ·XRD | 第54-55页 |
| ·SEM | 第55页 |
| ·电场协助对ZnO/IT0薄膜光催化性能的影响 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第六章 结论与展望 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间主要研究成果 | 第68页 |