| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·近壁流体的减阻研究 | 第10-15页 |
| ·近壁流体运动的表征手段 | 第10-12页 |
| ·超疏水减阻的微纳结构表面 | 第12-15页 |
| ·滑移现象的理论研究 | 第15页 |
| ·碳纳米管薄膜 | 第15-27页 |
| ·碳纳米管的结构与性质 | 第16-17页 |
| ·取向碳纳米管阵列的生长方法 | 第17-20页 |
| ·切割法和过滤法 | 第17-18页 |
| ·溶胶凝胶法，激光腐蚀法，掩膜法 | 第18页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第18-20页 |
| ·CVD工艺参数对取向碳纳米管的影响 | 第20-22页 |
| ·催化剂层的厚度 | 第20-21页 |
| ·NH_3的作用 | 第21页 |
| ·生长的温度 | 第21-22页 |
| ·碳源气体的浓度 | 第22页 |
| ·碳纳米管的生长机理 | 第22-25页 |
| ·一般碳纳米管的生长模型 | 第22-23页 |
| ·CVD法生长碳纳米管的模型 | 第23-25页 |
| ·CVD法取向碳纳米管阵列的生长机理 | 第25页 |
| ·碳纳米管阵列的应用研究 | 第25-27页 |
| ·分子筛 | 第25页 |
| ·场发射管 | 第25-26页 |
| ·表面改性 | 第26-27页 |
| ·太阳能吸收 | 第27页 |
| ·本课题的研究思路及研究内容 | 第27-29页 |
| 第二章 实验材料和试验方法 | 第29-36页 |
| ·实验设备 | 第29页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·实验方法与流程 | 第30-34页 |
| ·实验方法 | 第30-31页 |
| ·实验流程 | 第31-34页 |
| ·预置镍催化剂制备碳纳米管 | 第31-34页 |
| ·以二茂铁为催化剂前驱体制备碳纳米管 | 第34页 |
| ·碳纳米管的表征 | 第34-36页 |
| 第三章 热CVD法定向碳纳米管薄膜的制备及其生长机理的研究 | 第36-48页 |
| ·碳纳米管薄膜的制备 | 第36-37页 |
| ·镍膜厚度的测试 | 第37-38页 |
| ·碳纳米管的表征与分析 | 第38-44页 |
| ·以镍、钴做催化剂的预置催化剂法 | 第38-42页 |
| ·氨气的影响因素 | 第38-40页 |
| ·载气的影响因素 | 第40页 |
| ·预置催化剂法制备的碳纳米管结构 | 第40-42页 |
| ·以二茂铁作催化剂前驱体的浮动法 | 第42-44页 |
| ·温度和催化剂用量的影响 | 第42-44页 |
| ·浮动法制备的碳纳米管结构 | 第44页 |
| ·热CVD法定向碳纳米管薄膜生长机理 | 第44-47页 |
| ·预置催化剂法生长机理 | 第44-46页 |
| ·单根碳纳米管的顶部生长模式 | 第44-45页 |
| ·阵列碳纳米管的密度控制机理 | 第45-46页 |
| ·浮动法阵列碳管的生长机理 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 碳纳米管薄膜的浸润性能及对微流体的阻力 | 第48-61页 |
| ·碳纳米管薄膜的浸润性能 | 第48-53页 |
| ·固体的浸润性能 | 第48-50页 |
| ·碳纳米管薄膜对水滴的浸润性能 | 第50-52页 |
| ·硅烷化后碳纳米管薄膜的浸润性能 | 第52-53页 |
| ·碳纳米管薄膜对甘油的浸润性能 | 第53页 |
| ·碳纳米管薄膜对微流体的阻力 | 第53-59页 |
| ·碳纳米管薄膜对水流的阻力 | 第53-56页 |
| ·水为介质的滑移长度 | 第56-58页 |
| ·碳纳米管薄膜对甘油的阻力 | 第58-59页 |
| ·减阻机理的分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70页 |