| 缩略语表 | 第1-6页 |
| 中文摘要 | 第6-9页 |
| 英文摘要 | 第9-12页 |
| 前言 | 第12-14页 |
| 文献回顾 | 第14-30页 |
| 正文 | 第30-55页 |
| 实验一钛表面微弧氧化处理对钛瓷结合强度的影响 | 第30-40页 |
| ·材料与方法 | 第30-32页 |
| ·结果 | 第32-37页 |
| ·讨论 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 实验二微弧氧化占空比和脉冲频率对钛瓷结合强度的影响 | 第40-46页 |
| ·材料与方法 | 第40-41页 |
| ·结果 | 第41-44页 |
| ·讨论 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 实验三微弧氧化电压参数对钛瓷结合强度的影响 | 第46-51页 |
| ·材料与方法 | 第46-47页 |
| ·结果 | 第47-49页 |
| ·讨论 | 第49-50页 |
| ·结论 | 第50-51页 |
| 实验四微弧氧化时间参数对钛瓷结合强度的影响 | 第51-55页 |
| ·材料和方法 | 第51页 |
| ·结果 | 第51-53页 |
| ·讨论 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| 小结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-65页 |
| 个人简历和研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |