| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-18页 |
| ·光学薄膜技术及其在国内外的发展情况 | 第13-15页 |
| ·抗激光损伤薄膜的国内外研究状况 | 第15-17页 |
| ·本课题的来源、目的及主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 抗激光损伤膜系的基本原理及设计计算 | 第18-34页 |
| ·光学薄膜的基本原理及计算 | 第18-26页 |
| ·从光的电磁理论导出的菲涅耳公式 | 第18-21页 |
| ·应用菲涅尔系数的计算方法 | 第21-23页 |
| ·单层增透膜的设计计算 | 第23-24页 |
| ·多层增透膜系的设计计算 | 第24-26页 |
| ·抗激光损伤增透膜系的设计及计算机模拟计算 | 第26-34页 |
| ·抗激光损伤增透膜系的总体要求及膜材分析 | 第26-27页 |
| ·膜系的初步设计计算 | 第27页 |
| ·膜系光学性能的影响因素及计算机模拟设计 | 第27-34页 |
| ·光学薄膜的驻波场 | 第28-29页 |
| ·光学薄膜的温度场 | 第29-31页 |
| ·光学薄膜的计算机模拟设计 | 第31-34页 |
| 第三章 电子束蒸发离子束辅助镀膜技术及镀膜设备 | 第34-43页 |
| ·真空电子束蒸发离子束辅助沉积镀膜的原理 | 第34-38页 |
| ·镀膜设备 | 第38-43页 |
| 第四章 ZrO_2／SiO_2薄膜的制备及退火处理 | 第43-48页 |
| ·ZrO_2／SiO_2薄膜试样的制备流程 | 第43-47页 |
| ·ZrO_2／SiO_2薄膜的真空退火 | 第47-48页 |
| 第五章 ZrO_2／SiO_2薄膜的微组织结构及光学性能分析 | 第48-60页 |
| ·ZrO_2／SiO_2薄膜样品的表面质量、膜层牢固度及环境试验 | 第48-49页 |
| ·表面质量试验 | 第48页 |
| ·膜层牢固度试验 | 第48-49页 |
| ·环境试验 | 第49页 |
| ·对ZrO_2／SiO_2薄膜组织结构和成分的分析 | 第49-60页 |
| ·原子力显微镜(AFM)表面形貌分析 | 第49-52页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS)成分分析 | 第52-55页 |
| ·X射线衍射分析 | 第55-58页 |
| ·光学性能分析 | 第58-60页 |
| 第六章 ZrO_2／SiO_2薄膜的激光损伤阈值测试 | 第60-67页 |
| ·激光对物质作用的机理 | 第60页 |
| ·对ZrO_2／SiO_2薄膜抗激光损伤阈值的测试技术 | 第60-64页 |
| ·抗激光损伤阈值的国际标准 | 第60-62页 |
| ·抗激光损伤阈值的测试原理 | 第62-63页 |
| ·抗激光损伤阈值的测试结果 | 第63-64页 |
| ·对ZrO_2／SiO_2薄膜抗激光损伤阈值测试结果的分析 | 第64-67页 |
| 第七章 总结 | 第67-69页 |
| ·工作总结 | 第67页 |
| ·工作展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-72页 |
| 个人论文 | 第72-73页 |
| 附录 | 第73页 |
| 规整膜系反射率的计算程序 | 第73页 |
