| 中文摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·压电传感器 | 第10-11页 |
| ·Sauerbray 方程 | 第10页 |
| ·压电石英晶体传感器 | 第10-11页 |
| ·压电石英晶体的研究内容和趋势 | 第11-20页 |
| ·电化学石英晶体微天平(EQCM) | 第11-13页 |
| ·QCM－D 测量技术 | 第13-14页 |
| ·QCM 与其它分析技术联用 | 第14-15页 |
| ·QCM 在生物分析中的应用 | 第15-17页 |
| ·分子印迹压电传感器 | 第17-18页 |
| ·气相压电传感器 | 第18-19页 |
| ·非质量响应的应用 | 第19页 |
| ·改善QCM 响应灵敏度 | 第19-20页 |
| ·论文构成 | 第20-21页 |
| 第二章 基于导纳曲线的阻抗数据分析新方法研究 | 第21-38页 |
| ·前言 | 第21-22页 |
| ·理论分析 | 第22-27页 |
| ·压电石英晶体的谐振频率测量 | 第22-24页 |
| ·多点平均法测定压电石英晶体的谐振频率 | 第24-27页 |
| ·实验部分 | 第27页 |
| ·仪器与试剂 | 第27页 |
| ·测量方法 | 第27页 |
| ·结果与讨论 | 第27-37页 |
| ·多点平均法效果分析 | 第27-30页 |
| ·切割线交点中位值与谐振频率的差异 | 第30-32页 |
| ·压电传感器在线检测阳离子表面活性剂CPC在PS修饰膜的吸附 | 第32-37页 |
| ·石英晶片的修饰 | 第32页 |
| ·实验步骤 | 第32页 |
| ·石英表面的PS 修饰膜制备 | 第32-33页 |
| ·表面活性剂在PS修饰膜上的吸附 | 第33-34页 |
| ·CPC 在PS 修饰膜上的吸附等温线 | 第34-36页 |
| ·吸附动力学参数的估算 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 基于相位—频率曲线的阻抗数据分析新方法研究 | 第38-51页 |
| ·前言 | 第38页 |
| ·串联和并联谐振频率的理论分析 | 第38-41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-50页 |
| ·相位中位值效果评估 | 第42-45页 |
| ·溶液粘度、密度的影响 | 第45-46页 |
| ·压电传感器在线检测阴离子表面活性剂SDBS 在PS 修饰膜的吸附 | 第46-50页 |
| ·SDBS 在PS 修饰膜上的吸附动力学 | 第47-49页 |
| ·SDBS 在PS 修饰膜上的吸附等温线 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 基于快速傅立叶变换法的阻抗数据处理方法研究 | 第51-63页 |
| ·前言 | 第51页 |
| ·FFT 基本原理 | 第51-53页 |
| ·快速傅立叶变换法的计算机模拟 | 第53-56页 |
| ·电导—频率曲线模拟 | 第53-56页 |
| ·相位—频率曲线模拟结果 | 第56页 |
| ·方法验证 | 第56-57页 |
| ·压电传感器在线检测非离子表面活性剂TX-114 在PS 修饰膜的吸附 | 第57-62页 |
| ·TX-114 在PS 修饰膜上的吸附 | 第57-59页 |
| ·TX-114 在PS 修饰膜上的吸附等温线 | 第59-61页 |
| ·吸附动力学参数的估算 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 硅酸镧镓晶体微天平测定石蜡膜的吸附特性 | 第63-68页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·实验部分 | 第63-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-67页 |
| ·LCM 监测SDS 在石蜡膜上的吸附 | 第64-65页 |
| ·SDS 在石蜡膜上的吸附动力学参数 | 第65页 |
| ·SDS 在石蜡修饰膜上的吸附等温线 | 第65-67页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-77页 |
| 攻读学位期间发表论文题录 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
