| 第一章 绪论 | 第1-33页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·静磁波 | 第14-17页 |
| ·磁性介质 | 第14-15页 |
| ·自旋波与静磁波 | 第15-17页 |
| ·静磁波技术与应用 | 第17-23页 |
| ·静磁波器件的发展概况 | 第17页 |
| ·静磁波技术 | 第17-19页 |
| ·静磁波应用 | 第19-23页 |
| ·基于静磁波的磁光 Bragg 器件及其应用 | 第23-31页 |
| ·声光 Bragg 器件介绍 | 第23-26页 |
| ·声光器件发展概况 | 第23-24页 |
| ·体波声光器件与表面波声光器件 | 第24页 |
| ·声光器件结构和原理 | 第24-25页 |
| ·声光器件的应用 | 第25-26页 |
| ·磁光 Bragg 器件的技术特点 | 第26-28页 |
| ·基于三种不同模式的磁光 Bragg 器件简介 | 第28-29页 |
| ·目前存在的问题以及相应的解决方案 | 第29-31页 |
| ·选题意义以及主要研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 垂直不均匀磁化时静磁波的激发与传播 | 第33-57页 |
| ·不均匀场垂直磁化时的研究状况 | 第33页 |
| ·静磁波理论 | 第33-36页 |
| ·磁化率张量与磁导率张量 | 第33-35页 |
| ·磁化强度的运动方程 | 第33-34页 |
| ·不计交换场和各向异性场的磁化率张量与磁导率张量 | 第34-35页 |
| ·静磁近似 | 第35-36页 |
| ·直接法求解静磁波色散关系 | 第36-40页 |
| ·三层薄膜波导的边界条件 | 第36-37页 |
| ·求解不均匀磁化时的色散关系 | 第37-40页 |
| ·变分法求解静磁波色散关系 | 第40-56页 |
| ·变分法的可行性分析 | 第40-43页 |
| ·变分方程 | 第43-44页 |
| ·均匀场垂直偏置时的势函数及其系数的求解 | 第44-48页 |
| ·静磁波色散关系 | 第48-54页 |
| ·化简被积函数 | 第48-51页 |
| ·仅与x 有关的变分方程的得出 | 第51-54页 |
| ·静磁波方程 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第三章 静磁正向体波对导波光的 Bragg 衍射 | 第57-72页 |
| ·与磁光效应相联系的交变磁化强度 | 第57-58页 |
| ·带宽分析 | 第58-59页 |
| ·不均匀场垂直偏置时的磁光 Bragg 衍射 | 第59-69页 |
| ·Bragg 衍射效率公式 | 第59-62页 |
| ·理论计算 | 第62-69页 |
| ·偏置磁场及其它参量的选择 | 第62-63页 |
| ·计算结果与实验数据的比较 | 第63-69页 |
| ·布拉格衍射的几何关系 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第四章 影响磁光 Bragg 器件衍射特性的因素分析 | 第72-90页 |
| ·几种新型磁光 Bragg 器件的工作原理 | 第73-74页 |
| ·影响衍射效率的因素 | 第74-82页 |
| ·不均匀磁场形式对 Bragg 衍射效率的影响 | 第74-76页 |
| ·不均匀场大小的影响 | 第76-77页 |
| ·磁性薄膜材料的影响 | 第77-79页 |
| ·薄膜厚度的影响 | 第79-80页 |
| ·激发电流强度的影响 | 第80-81页 |
| ·磁光作用长度的影响 | 第81-82页 |
| ·磁光 Bragg 器件衍射光的偏转角 | 第82-89页 |
| ·Bragg 衍射光的偏转角公式 | 第82-84页 |
| ·偏转角与静磁波频率的关系 | 第84-86页 |
| ·垂直偏置不均匀场对偏转角的影响 | 第86-87页 |
| ·磁性薄膜厚度对偏转角的影响 | 第87-88页 |
| ·磁光作用长度对偏转角的影响 | 第88-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第五章 结论与展望 | 第90-93页 |
| ·本论文研究总结 | 第90-92页 |
| ·有待进一步研究的内容及前景展望 | 第92-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-98页 |
| 作者攻硕期间取得的研究成果 | 第98页 |