| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 前言 | 第8-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-26页 |
| ·纳米分子筛 | 第9-13页 |
| ·纳米分子筛的性能 | 第9-10页 |
| ·外表面 | 第9页 |
| ·吸附特性 | 第9-10页 |
| ·扩散特性 | 第10页 |
| ·水热稳定性及热稳定性 | 第10页 |
| ·合成纳米分子筛的途径 | 第10-12页 |
| ·合成条件的优化 | 第10-11页 |
| ·添加导向剂或晶种 | 第11页 |
| ·添加金属盐和表面活性剂及有机溶剂 | 第11页 |
| ·限定空间法 | 第11-12页 |
| ·模板剂法 | 第12页 |
| ·微波合成法 | 第12页 |
| ·添加铝络合剂和异晶导向剂法 | 第12页 |
| ·纳米分子筛的应用 | 第12-13页 |
| ·在催化方面的应用 | 第12-13页 |
| ·在无机膜制备方面的应用 | 第13页 |
| ·纳米分子筛电流(磁)变材料 | 第13页 |
| ·分子筛膜 | 第13-21页 |
| ·分子筛膜合成的机理 | 第13-14页 |
| ·分子筛膜的合成方法 | 第14-16页 |
| ·非原位合成法 | 第14页 |
| ·原位合成法 | 第14-16页 |
| ·晶种引入的方法 | 第16-18页 |
| ·喷涂晶种法 | 第16-17页 |
| ·砂纸打磨法 | 第17页 |
| ·超声波引入晶种 | 第17页 |
| ·提拉浸渍法 | 第17页 |
| ·抽空涂晶法 | 第17页 |
| ·浸涂法（浸渍法） | 第17-18页 |
| ·气相晶种技术 | 第18页 |
| ·载体的表面处理 | 第18-19页 |
| ·分子筛膜的应用 | 第19-21页 |
| ·催化反应 | 第19-20页 |
| ·气体分离 | 第20页 |
| ·传感器 | 第20-21页 |
| ·等离子体表面处理 | 第21-23页 |
| ·等离子体的基本理论 | 第21-22页 |
| ·等离子体技术在化学领域的应用 | 第22-23页 |
| ·分子筛膜研究中存在的问题 | 第23-25页 |
| ·膜的牢固性问题 | 第23页 |
| ·支撑膜的载体问题 | 第23-24页 |
| ·原料的浪费问题 | 第24页 |
| ·膜的定向生长问题 | 第24页 |
| ·分子筛膜的缺陷 | 第24-25页 |
| ·论文工作的提出 | 第25-26页 |
| 第二章 实验方法 | 第26-31页 |
| ·实验方法 | 第26页 |
| ·实验所用的仪器 | 第26-27页 |
| ·纳米Y型分子筛的制备 | 第27页 |
| ·Y型分子筛膜的合成方法 | 第27-29页 |
| ·载体的预处理 | 第27-28页 |
| ·载体预涂晶种 | 第28-29页 |
| ·合成方法 | 第29页 |
| ·物化性质表征 | 第29-31页 |
| ·X-射线衍射物物相分析 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)晶体型貌分析 | 第30页 |
| ·英国OXFORD公司ISIS300 型射线能谱仪 | 第30页 |
| ·红外光谱的测定 | 第30页 |
| ·分子筛的吸附性能测定 | 第30页 |
| ·比表面积和孔分布 | 第30-31页 |
| 第三章 实验结果与讨论 | 第31-63页 |
| ·纳米分子筛的制备 | 第31-38页 |
| ·不同陈化时间对制备纳米Y型分子筛的影响 | 第31-32页 |
| ·不同晶化时间对制备纳米Y型分子筛的影响 | 第32-33页 |
| ·不同晶化温度对制备纳米Y型分子筛的影响 | 第33-34页 |
| ·纳米分子筛的热稳定性 | 第34-35页 |
| ·Y型分子筛纳米棒的合成 | 第35-36页 |
| ·Y型分子筛的红外光谱表征 | 第36-37页 |
| ·分子筛的孔结构 | 第37-38页 |
| ·Y型分子筛膜的合成 | 第38-56页 |
| ·预植晶种方式的影响 | 第38-41页 |
| ·合成条件的影响 | 第41-56页 |
| ·硅铝比 | 第41-43页 |
| ·碱度的影响 | 第43-44页 |
| ·水的含量对分子筛膜的影响 | 第44-45页 |
| ·陈化时间对分子筛膜的影响 | 第45-47页 |
| ·不同反应时间对分子筛膜的影响 | 第47-49页 |
| ·晶化次数的影响 | 第49-51页 |
| ·载体在反应釜中位置不同对制备的分子筛膜的影响 | 第51-53页 |
| ·分子筛膜与合成母液中的分子筛颗粒的关系 | 第53-55页 |
| ·超声洗涤时间对Y型分子筛膜的影响 | 第55-56页 |
| ·等离子体对预植晶种载体及成膜的影响 | 第56-63页 |
| ·等离子体对预植晶种载体表面的影响 | 第56-60页 |
| ·极差分析 | 第58-59页 |
| ·等离子体发射功率的影响 | 第59页 |
| ·载气流量的影响 | 第59-60页 |
| ·处理时间的影响 | 第60页 |
| ·等离子体处理对预植晶种载体成膜的影响 | 第60-63页 |
| 第四章 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |