| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1．1 引言 | 第10-11页 |
| 1．2 硬质薄膜材料发展概况 | 第11-13页 |
| 1．3 硬质薄膜制备技术发展概况 | 第13-17页 |
| 1．4 薄膜表征的方法和意义 | 第17-21页 |
| 1．4．1 薄膜形貌表征 | 第17-18页 |
| 1．4．2 薄膜结构表征 | 第18-19页 |
| 1．4．3 薄膜力学性能表征 | 第19-20页 |
| 1．4．4 薄膜表征的意义 | 第20-21页 |
| 1．5 本论文的工作内容与意义 | 第21-23页 |
| 2 薄膜制备 | 第23-27页 |
| 2．1 实验设备简介 | 第23-24页 |
| 2．2 基体材料的选择与制备 | 第24页 |
| 2．3 膜层材料的选择与制备 | 第24-27页 |
| 2．3．1 膜层材料的选择 | 第24-25页 |
| 2．3．2 膜层的制备工艺 | 第25-27页 |
| 3 薄膜结构表征 | 第27-47页 |
| 3．1 透射电镜表征薄膜结构 | 第27-42页 |
| 3．1．1 透射电镜基本构造和工作原理 | 第27-29页 |
| 3．1．2 透射电镜样品制备 | 第29-33页 |
| 3．1．3 透射电子显微像的拍摄过程 | 第33-34页 |
| 3．1．4 多晶体衍射花样的标定 | 第34页 |
| 3．1．5 透射电镜实验结果及讨论 | 第34-42页 |
| 3．1．5．1 TiN纳米单层膜的电镜结果及讨论 | 第34-35页 |
| 3．1．5．2 (Ti,Nb)N纳米薄膜的电镜结果及讨论 | 第35-37页 |
| 3．1．5．3 Ti／TiN纳米多层膜的电镜结果及讨论 | 第37-41页 |
| 3．1．5．4 TiN／TiC纳米多层膜的电镜结果及讨论 | 第41-42页 |
| 3．2 X射线表征薄膜结构 | 第42-46页 |
| 3．2．1 TiN纳米单层膜的XRD结果及讨论 | 第42页 |
| 3．2．2 (Ti,Nb)N纳米薄膜的XRD结果及讨论 | 第42-45页 |
| 3．2．1 Ti／TiN纳米多层膜的XRD结果及讨论 | 第45-46页 |
| 3．3 X射线表征薄膜结构 | 第46-47页 |
| 4 薄膜力学性能表征 | 第47-57页 |
| 4．1 薄膜硬度表征 | 第47-54页 |
| 4．1．1 纳米压入法表征薄膜硬度 | 第47-52页 |
| 4．1．1．1 纳米压入法的基本原理 | 第47-48页 |
| 4．1．1．2 纳米压入法的实验过程 | 第48-49页 |
| 4．1．1．3 纳米压入法表征结果 | 第49-52页 |
| 4．1．2 努氏硬度法表征薄膜硬度 | 第52-53页 |
| 4．1．3 薄膜硬度测试结果分析及讨论 | 第53-54页 |
| 4．1．4 薄膜硬度测试方法讨论 | 第54页 |
| 4．2 膜基结合强度表征 | 第54-56页 |
| 4．2．1 实验方法 | 第54-55页 |
| 4．2．2 实验结果及讨论 | 第55-56页 |
| 4．3 本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论与展望 | 第57-59页 |
| 5．1 全文总结 | 第57-58页 |
| 5．2 工作展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 附录 薄膜TEM样品制备操作规范 | 第66-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 大连理工大学学位论文版权使用授权书 | 第71页 |
