| 摘 要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 引 言 | 第10-21页 |
| ·光波导放大器的应用和发展 | 第10-14页 |
| ·光放大器的发展以及应用 | 第10-13页 |
| ·掺铒光放大器增益平坦技术的提出以及本文采用的方法 | 第13-14页 |
| ·掺铒光放大器的增益平坦技术的讨论 | 第14-21页 |
| ·掺铒光放大器的增益谱的讨论 | 第14-15页 |
| ·掺铒光放大器增益平坦技术的概述 | 第15-17页 |
| ·利用光学薄膜滤光片实现光波导放大器增益平坦的基本原理 | 第17-18页 |
| ·利用光学薄膜滤光片实现光波导放大器增益平坦的优势 | 第18-19页 |
| ·本文所研究的主要工作 | 第19-21页 |
| 第二章 掺铒光波导放大器增益平坦滤光片的膜系设计 | 第21-49页 |
| ·掺铒光波导放大器增益平坦技术的要求 | 第21-22页 |
| ·掺铒光波导放大器增益谱不平坦的讨论 | 第21页 |
| ·本文所讨论的区域 | 第21页 |
| ·掺铒光波导放大器增益平坦技术的相关指标 | 第21-22页 |
| ·膜系设计方法的研究与讨论 | 第22-25页 |
| ·主要的膜系设计方法概述 | 第22-24页 |
| ·本文所采用的膜系设计方法 | 第24-25页 |
| ·膜系计算的基本原理 | 第25-26页 |
| ·评价函数的确立 | 第26-30页 |
| ·评价函数的常见形式以及权重因子的选择 | 第27-28页 |
| ·本文采用的评价函数 | 第28-30页 |
| ·遗传退火算法实现膜系的设计 | 第30-49页 |
| ·遗传算法和退火算法的发展以及应用 | 第30-33页 |
| ·遗传退火算法设计膜系的理论基础 | 第33-41页 |
| ·关于遗传算法设计膜系的几个概念 | 第33页 |
| ·适应度函数 | 第33-35页 |
| ·遗传编码和解码 | 第35-36页 |
| ·基本遗传算子操作 | 第36-38页 |
| ·遗传算子的相关运行参数 | 第38-39页 |
| ·模式定理 | 第39-40页 |
| ·模拟退火算法的基本原理 | 第40-41页 |
| ·膜系设计过程 | 第41页 |
| ·膜系初始型的确立 | 第41-43页 |
| ·遗传算法操作 | 第43-46页 |
| ·遗传操作的流程图 | 第43-44页 |
| ·编码(解码)方式的选择 | 第44页 |
| ·遗传算子的选择 | 第44-45页 |
| ·精英保留策略 | 第45页 |
| ·相关参数的确定 | 第45-46页 |
| ·模拟退火操作 | 第46-47页 |
| ·模拟退火操作流程图 | 第46页 |
| ·模拟退火参数确定 | 第46-47页 |
| ·最优膜系的选择和讨论 | 第47-49页 |
| ·滤光片膜系设计界面以及搜索过程显示 | 第47-48页 |
| ·最优滤光片膜系的光谱特性和平坦增益谱 | 第48-49页 |
| 第三章 膜系监控方式的选择以及监控工艺设计 | 第49-57页 |
| ·薄膜厚度监控的技术 | 第49-53页 |
| ·石英晶体监控法 | 第49-50页 |
| ·光电极值监控法 | 第50-52页 |
| ·光电极值监控系统简介 | 第50-51页 |
| ·常用的光电极值监控方法 | 第51页 |
| ·光电极值法的自动补偿效应以及过正控制监控 | 第51-52页 |
| ·改变监控波长的光电极值非规整膜系监控方法原理 | 第52-53页 |
| ·监控波长的搜索流程以及监控波长的选择 | 第53-55页 |
| ·监控波长搜索流程图 | 第53-54页 |
| ·滤光片监控波长的选择 | 第54-55页 |
| ·滤光片的监控模拟 | 第55页 |
| ·监控误差的理论分析 | 第55-57页 |
| ·考虑到厚度误差的分析 | 第56页 |
| ·考虑到折射率误差的分析 | 第56-57页 |
| 第四章 膜系的工艺实现 | 第57-64页 |
| ·ZZ630真空镀膜机简介 | 第57-58页 |
| ·真空系统 | 第57页 |
| ·光学控制系统 | 第57页 |
| ·电子束蒸发系统 | 第57-58页 |
| ·基础实验 | 第58-62页 |
| ·基本材料折射率的确定和控制 | 第58-60页 |
| ·检测薄膜折射率的方法 | 第58-59页 |
| ·真空度对材料折射率的影响以及控制实验 | 第59-60页 |
| ·蒸发环境的选择以及所对应的材料折射率值 | 第60页 |
| ·材料和基片的接触误差以及解决方法 | 第60页 |
| ·样片恒温退火处理 | 第60-61页 |
| ·工作夹具的制作 | 第61页 |
| ·修正档板的制作以及工具因子的确定 | 第61-62页 |
| ·工艺实现过程 | 第62-64页 |
| ·实际监控过程记录 | 第62-63页 |
| ·实际监控的误差分析 | 第63-64页 |
| 第五章 样片测试以及误差分析 | 第64-66页 |
| ·样片光谱曲线的测试系统以及测试曲线 | 第64页 |
| ·样片增益曲线分析 | 第64页 |
| ·样片的误差讨论 | 第64-66页 |
| 第六章 总 结 | 第66-68页 |
| ·本文工作总结 | 第66-67页 |
| ·本文的工作展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 致 谢 | 第73-74页 |
| 个人简历 | 第74页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第74页 |
