| 中文摘要 | 第1-3页 |
| 英文摘要 | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| 1．1 氮化硅的结构和性能 | 第7-8页 |
| 1．2 氮化硅陶瓷的制备工艺 | 第8-10页 |
| 1．3 氮化硅陶瓷的韧化途径及机理 | 第10-12页 |
| 1．4 助烧剂对氮化硅陶瓷高温性能的影响 | 第12-13页 |
| 1．5 提高氮化硅陶瓷高温性能的途径 | 第13-15页 |
| 1．5．1 改变晶间相的成分，提高其耐火度 | 第13-14页 |
| 1．5．2 形成Sialon减少消除晶间 | 第14页 |
| 1．5．3 晶界玻璃相的晶化处理 | 第14-15页 |
| 1．6 本论文的目的和意义 | 第15-16页 |
| 第二章 MgO析晶现象的观察 | 第16-26页 |
| 2．1 实验设想和组分设计 | 第16页 |
| 2．2 所用粉末原料特性 | 第16-17页 |
| 2．3 实验步骤 | 第17-19页 |
| 2．3．1 SPS烧结 | 第18-19页 |
| 2．3．2 材料密度的测试 | 第19页 |
| 2．4 结果及分析 | 第19-26页 |
| 2．4．1 烧结过程的分析 | 第19-22页 |
| 2．4．2 烧结后物相的变化 | 第22-26页 |
| 第三章 析晶机制的分析 | 第26-34页 |
| 3．1 实验设想和组分设计 | 第26-27页 |
| 3．2 实验步骤 | 第27-28页 |
| 3．2．1 热压烧结 | 第27-28页 |
| 3．3 XRD相分析 | 第28-30页 |
| 3．4 析晶机制的分析 | 第30-34页 |
| 第四章 磨削处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响 | 第34-47页 |
| 4．1 实验 | 第34-36页 |
| 4．1．1 试样的制备 | 第35页 |
| 4．1．2 试样的表面处理 | 第35页 |
| 4．1．3 试样强度的测试 | 第35-36页 |
| 4．2 残余应力的测量原理 | 第36-38页 |
| 4．3 残余应力测量及数据处理 | 第38-41页 |
| 4．4 实验结果及分析 | 第41-47页 |
| 4．4．1 试样表面的形貌观察 | 第41-44页 |
| 4．4．2 试样断面形貌观察 | 第44-45页 |
| 4．4．3 表面处理方式对试样强度的影响 | 第45-47页 |
| 第五章 结论 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 附录1 SiO_2-MgO-CeO_2的XRD图谱 | 第54-61页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第61页 |