| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| 1．1 引言 | 第12-14页 |
| 1．2 磁光记录介质的历史、现状与未来 | 第14-21页 |
| 1．3 Bi替石榴石磁光薄膜发展概况 | 第21-24页 |
| 1．4 本论文的章节安排 | 第24-27页 |
| 第二章 热磁记录基础及静态热磁畴模拟 | 第27-39页 |
| 2．1 热磁记录原理 | 第27-29页 |
| 2．2 Bi、Al替石榴石DyIG薄膜的静态热磁模拟近似计算 | 第29-33页 |
| 2．2．1 模拟的原理和方法 | 第30-31页 |
| 2．2．2 模拟结果和分析 | 第31-33页 |
| 2．3 记录点边界分析 | 第33-37页 |
| 2．4 小结 | 第37-39页 |
| 第三章 量子法拉第效应及频谱研究 | 第39-49页 |
| 3．1 量子跃迁模型和法拉第角频谱的计算 | 第39-47页 |
| 3．1．1 量子跃迁模型 | 第39-45页 |
| 3．2．2 法拉第角频谱的计算 | 第45-47页 |
| 3．3．3 材料配方的选择及应用波长范围 | 第47页 |
| 3．3 小结 | 第47-49页 |
| 第四章 耦合法拉第模型的建立 | 第49-57页 |
| 4．1 耦合法拉第模型 | 第50-55页 |
| 4．2 用耦合法拉第模型计算法拉第角频谱 | 第55-56页 |
| 4．3 耦合法拉第角计算结果分析 | 第56页 |
| 4．4 小结 | 第56-57页 |
| 第五章 热分解法及用热分解法制备薄膜的新工艺过程研究 | 第57-70页 |
| 5．1 热分解薄膜工艺概述 | 第57-59页 |
| 5．2 热分解薄膜工艺的优点 | 第59页 |
| 5．3 热分解薄膜工艺常用的几种方法 | 第59-60页 |
| 5．4 Bi、Al替石榴石磁光薄膜的结构 | 第60-62页 |
| 5．5 热分解法制备Bi、Al替DyIG石榴石磁光薄膜 | 第62-65页 |
| 5．5．1 溶液的配制 | 第62-63页 |
| 5．5．2 薄膜制备过程 | 第63-64页 |
| 5．5．3 制备Bi、Al替DyIG石榴石磁光薄膜工艺小结 | 第64-65页 |
| 5．6 Bi替DyIG磁光膜的生成机理 | 第65-66页 |
| 5．7 Bi替DyIG磁光膜的晶化机理 | 第66-69页 |
| 5．8 小结 | 第69-70页 |
| 第六章 计算机辅薄膜性能测试与分析 | 第70-91页 |
| 6．1 薄膜的结构、成分分析 | 第71-73页 |
| 6．2 磁光测试系统的建立 | 第73-78页 |
| 6．2．1 磁光测试仪的工作原理 | 第73-76页 |
| 6．2．2 磁光测试仪的制作 | 第76-78页 |
| 6．3 薄膜的磁光性能测试 | 第78-88页 |
| 6．4．1 薄膜居里温度的测试 | 第78-80页 |
| 6．4．2 薄膜的磁光性能与工艺过程的关系 | 第80-88页 |
| 6．4 薄膜的磁特性测试 | 第88-90页 |
| 6．5 小结 | 第90-91页 |
| 第七章 薄膜的纳米晶化及其性能测试 | 第91-109页 |
| 7．1 纳米材料概述 | 第91-94页 |
| 7．2 薄膜纳米晶化的几种方法 | 第94-96页 |
| 7．3 掺Rb使薄膜纳米晶化 | 第96-103页 |
| 7．3．1 掺Rb使薄膜纳米晶化的机理 | 第96-97页 |
| 7．3．2 掺Rb薄膜的磁光性能与晶化温度的关系 | 第97-99页 |
| 7．3．3 掺Rb薄膜的磁光性能与晶化时间的关系 | 第99-101页 |
| 7．3．4 掺Rb薄膜的磁性能的变化 | 第101-102页 |
| 7．3．5 掺Rb薄膜的晶粒尺寸变化 | 第102-103页 |
| 7．4 使用快速循环退火使薄膜纳米晶化 | 第103-106页 |
| 7．4．1 快速循环退火晶化动力学理论 | 第103-106页 |
| 7．4．2 循环退火对晶粒尺寸的影响 | 第106页 |
| 7．5 制成双层膜使薄膜纳米晶化 | 第106-107页 |
| 7．6 小结 | 第107-109页 |
| 第八章 大尺寸纳米晶磁光薄膜研究 | 第109-116页 |
| 8．1 大尺寸纳米晶磁光材料的制备和测试 | 第109-112页 |
| 8．2 磁光回线反向的理论解释 | 第112-114页 |
| 8．3 热分解磁光薄膜与真空磁控溅射薄膜磁光性能对比 | 第114-115页 |
| 8．4 小结 | 第115-116页 |
| 第九章 结语与展望 | 第116-138页 |
