自适应微镜阵列的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-17页 |
| ·课题背景 | 第7-8页 |
| ·MOEMS系统概况 | 第7页 |
| ·MOEMS的主要应用 | 第7-8页 |
| ·自适应微变反射镜的研究现状 | 第8-13页 |
| ·传统的自适应光学系统 | 第8-9页 |
| ·微光学自适应系统 | 第9页 |
| ·微变反射镜 | 第9-11页 |
| ·驱动方式 | 第11-13页 |
| ·本课题研究内容 | 第13-14页 |
| ·课题创新点 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 微变反射镜阵列的设计 | 第17-23页 |
| ·微变反射镜阵列的工作原理 | 第17页 |
| ·理论依据 | 第17-18页 |
| ·方案设计 | 第18-21页 |
| ·材料选择 | 第18页 |
| ·结构方案设计 | 第18-19页 |
| ·自适应微变反射镜阵列 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第三章 硅的MOEMS微加工技术 | 第23-37页 |
| ·薄膜技术 | 第23页 |
| ·光刻技术 | 第23-31页 |
| ·光刻胶 | 第24-25页 |
| ·光刻曝光 | 第25-27页 |
| ·掩模版 | 第27页 |
| ·光刻步骤 | 第27-31页 |
| ·刻蚀技术 | 第31-33页 |
| ·其他硅微机械加工技术 | 第33-35页 |
| ·表面微机械加工技术 | 第33页 |
| ·各向异性刻蚀的自终止技术 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第四章 硅的湿法刻蚀工艺研究 | 第37-53页 |
| ·各向同性和各向异性刻蚀 | 第37-41页 |
| ·各向同性刻蚀 | 第37-39页 |
| ·各向异性刻蚀 | 第39-41页 |
| ·硅的KOH湿法刻蚀研究 | 第41-51页 |
| ·KOH湿法刻蚀概述 | 第41页 |
| ·实验方案 | 第41-42页 |
| ·实验结果及数据处理分析 | 第42-50页 |
| ·实验总结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第五章 微反射镜阵列制作工艺 | 第53-67页 |
| ·工艺流程设计 | 第53-57页 |
| ·微变反射镜阵列工艺的实现 | 第57-66页 |
| ·生长SiO_2薄膜 | 第57-58页 |
| ·硅片尺寸测量 | 第58-59页 |
| ·硅片切割 | 第59页 |
| ·掩模版制备 | 第59-61页 |
| ·光刻 | 第61-64页 |
| ·HF酸各向同性刻蚀 | 第64页 |
| ·KOH各向异性刻蚀 | 第64页 |
| ·蒸镀铝膜 | 第64-65页 |
| ·制作电极 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-67页 |
| 第六章 微反射镜阵列性能测试与分析 | 第67-77页 |
| ·微变反射镜主要性能参数 | 第67-68页 |
| ·校正单元数 | 第67页 |
| ·最大变形量、灵敏度和滞后 | 第67页 |
| ·表面面形精度即其稳定性 | 第67-68页 |
| ·面形响应函数和交连值 | 第68页 |
| ·微变反射镜阵列的基本特征 | 第68页 |
| ·微变反射镜阵列性能测试 | 第68-75页 |
| ·测试原理 | 第68-72页 |
| ·实验测试结果 | 第72-75页 |
| ·微反射镜阵列优缺点分析 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-77页 |
| 第七章 总结与展望 | 第77-81页 |
| ·课题小结 | 第77-78页 |
| ·应用前景展望 | 第78-81页 |
| 攻读硕士期间的主要研究成果 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
