CF4射频等离子体硅橡胶表面疏水疏油改性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-41页 |
| ·润湿表面的理论基础 | 第9-22页 |
| ·润湿的概念和类型 | 第9-10页 |
| ·理想光滑表面的静态接触角 | 第10-11页 |
| ·非理想粗糙表面的静态接触角 | 第11-15页 |
| ·接触角滞后 | 第15-17页 |
| ·滚动角 | 第17-18页 |
| ·两种模型的润湿性 | 第18-22页 |
| ·超疏水表面的应用及制备方法 | 第22-33页 |
| ·超疏水表面的应用 | 第22-23页 |
| ·超疏水表面的制备方法 | 第23-33页 |
| ·高分子材料表面等离子体改性 | 第33-38页 |
| ·高分子材料表面改性 | 第33-34页 |
| ·等离子体表面改性技术的原理及应用 | 第34-37页 |
| ·等离子体硅橡胶表面改性 | 第37-38页 |
| ·本课题研究目的和内容 | 第38-41页 |
| ·本课题研究目的 | 第38-40页 |
| ·本课题研究内容 | 第40-41页 |
| 第二章 等离子体表面改性硅橡胶材料实验 | 第41-47页 |
| ·实验材料 | 第41页 |
| ·等离子体表面改性硅橡胶材料装置 | 第41-42页 |
| ·分析检测方法 | 第42-47页 |
| ·原子力显微镜观察 | 第42-43页 |
| ·X射线光电子能谱分析 | 第43-45页 |
| ·红外光谱分析 | 第45页 |
| ·静态接触角测量 | 第45-46页 |
| ·表面能分析 | 第46-47页 |
| 第三章 感性耦合放电等离子体(ICP)表面改性 | 第47-78页 |
| ·感性耦合等离子体原理及特点 | 第47-49页 |
| ·感性耦合等离子体原理 | 第47-48页 |
| ·感性耦合等离子体的特点 | 第48-49页 |
| ·感性耦合等离子体改性实验装置及工艺参数 | 第49-50页 |
| ·改性实验装置 | 第49-50页 |
| ·改性工艺参数 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-76页 |
| ·静态接触角表征 | 第50-55页 |
| ·表面形貌分析 | 第55-61页 |
| ·表面化学结构分析 | 第61-75页 |
| ·表面能分析 | 第75-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第四章 容性耦合放电等离子体(CCP)表面改性 | 第78-116页 |
| ·容性耦合等离子体原理及特点 | 第78-80页 |
| ·容性耦合等离子体原理 | 第78-79页 |
| ·容性耦合等离子体特点 | 第79-80页 |
| ·容性耦合等离子体改性装置及工艺参数 | 第80-81页 |
| ·改性实验装置 | 第80页 |
| ·改性工艺参数 | 第80-81页 |
| ·结果与讨论 | 第81-114页 |
| ·静态接触角表征 | 第81-87页 |
| ·表面形貌分析 | 第87-92页 |
| ·表面化学结构分析 | 第92-110页 |
| ·两种因素对提高硅橡胶表面疏水程度分析 | 第110-112页 |
| ·表面能分析 | 第112-114页 |
| ·本章小结 | 第114-116页 |
| 第五章 结论与展望 | 第116-119页 |
| ·结论 | 第116-117页 |
| ·展望 | 第117-119页 |
| 参考文献 | 第119-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第141-143页 |
