| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-25页 |
| ·光子晶体的产生 | 第8-12页 |
| ·光子晶体的概念 | 第8-9页 |
| ·光子晶体的能带理论 | 第9-10页 |
| ·光子晶体的结构 | 第10-12页 |
| ·光子晶体的特征 | 第12-15页 |
| ·光子带隙 | 第12页 |
| ·光子局域 | 第12-13页 |
| ·其它特征 | 第13-14页 |
| ·光子晶体与半导体的比较 | 第14-15页 |
| ·光子晶体的应用及发展 | 第15-21页 |
| ·光子晶体光纤 | 第16-18页 |
| ·光子晶体波导 | 第18页 |
| ·光子晶体微腔 | 第18-19页 |
| ·光子晶体超棱镜 | 第19-20页 |
| ·光子晶体滤波器 | 第20页 |
| ·光子晶体偏振片 | 第20页 |
| ·低闭值激光器 | 第20-21页 |
| ·多功能传感器材料 | 第21页 |
| ·其他应用 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-25页 |
| 第二章 光子晶体的制备方法概述 | 第25-35页 |
| ·物理法 | 第25-29页 |
| ·微加工法 | 第25-26页 |
| ·逐层叠加法 | 第26-27页 |
| ·全息印刷术和双光子聚合法 | 第27-29页 |
| ·胶体化学法 | 第29-33页 |
| ·重力沉降自组装 | 第29-30页 |
| ·强制有序化法(物体限制下的自组装法) | 第30页 |
| ·电泳沉积法 | 第30-31页 |
| ·垂直沉积法 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 单分散二氧化硅胶体颗粒的制备 | 第35-40页 |
| ·经典St(o|¨)ber法概述 | 第35-36页 |
| ·实验药品和仪器 | 第36页 |
| ·实验药品 | 第36页 |
| ·实验仪器 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-39页 |
| ·单分散SiO_2胶体微球的形成机理 | 第37-38页 |
| ·仪器清洗 | 第38页 |
| ·反应过程 | 第38页 |
| ·单分散SiO_2胶体微球的后处理 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-40页 |
| 第四章 NiO-SiO_2三维光子晶体的制备和表征 | 第40-56页 |
| ·SiO_2三维光子晶体的性能表征手段 | 第40-44页 |
| ·结构分析—X射线衍射技术 | 第40-41页 |
| ·表面形貌分析—扫描电子显微镜(SEM) | 第41-42页 |
| ·光谱分析—SiO_2光子晶体中的布拉格定律 | 第42-44页 |
| ·SiO_2三维光子晶体的制备和表征 | 第44-50页 |
| ·制备方法 | 第44页 |
| ·结构分析 | 第44-45页 |
| ·电子显微形貌观察 | 第45-47页 |
| ·光谱特性分析 | 第47-50页 |
| ·NiO-SiO_2三维光子晶体的制备和表征 | 第50-54页 |
| ·制备方法 | 第50页 |
| ·结构分析 | 第50-51页 |
| ·电子显微形貌观察 | 第51-53页 |
| ·光学性能 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 结论与展望 | 第56-57页 |
| ·结论 | 第56页 |
| ·建议与展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 在学期间的研究成果 | 第58页 |