磁控溅射制备ZnO透明导电薄膜的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·纳米材料和薄膜 | 第10-14页 |
| ·纳米材料的特性 | 第11页 |
| ·纳米材料的应用 | 第11-12页 |
| ·纳米薄膜 | 第12-14页 |
| ·透明导电薄膜 | 第14-19页 |
| ·透明导电薄膜的分类 | 第14页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第14-16页 |
| ·透明导电氧化物薄膜 | 第16页 |
| ·二氧化锡(SnO_2) | 第16-17页 |
| ·氧化铟(In2O_3) | 第17-18页 |
| ·氧化铟锡(ITO) | 第18-19页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第19-21页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第19-20页 |
| ·ZnO基透明导电薄膜 | 第20-21页 |
| ·选题依据 | 第21-22页 |
| ·高价位差掺杂 | 第21页 |
| ·高温稳定性 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第二章 透明导电薄膜制备、测试和分析方法 | 第25-34页 |
| ·透明导电薄膜制备方法 | 第25-28页 |
| ·射频磁控溅射法原理 | 第25-26页 |
| ·溅射镀膜的成膜机理 | 第26-27页 |
| ·射频磁控溅射沉积透明导电薄膜的特点 | 第27-28页 |
| ·薄膜结构表征——X射线衍射技术(XRD) | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜技术(SEM) | 第29-30页 |
| ·薄膜电阻率的测试 | 第30-31页 |
| ·薄膜光学透射光谱 | 第31-32页 |
| ·薄膜折射率研究(包络法) | 第32页 |
| 参考文献 | 第32-34页 |
| 第三章 Dy掺杂对ZnO薄膜性能研究 | 第34-42页 |
| ·Dy掺杂ZnO薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·薄膜样品表征手段 | 第35页 |
| ·实验结果与讨论 | 第35-40页 |
| ·成分与结构表征 | 第35-37页 |
| ·表面形貌分析 | 第37-38页 |
| ·光学性质研究 | 第38-40页 |
| ·小结 | 第40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第四章 Zr掺杂ZnO透明导电薄膜特性的研究 | 第42-62页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第42页 |
| ·薄膜样品的表征手段 | 第42页 |
| ·不同Zr掺杂量对ZnO薄膜性能的影响 | 第42-48页 |
| ·成分分析 | 第43-44页 |
| ·结构表征 | 第44-46页 |
| ·表面形貌分析 | 第46-47页 |
| ·光学性能研究 | 第47-48页 |
| ·退火过程对Zr掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第48-53页 |
| ·结构分析 | 第49-51页 |
| ·形貌分析 | 第51页 |
| ·光学性质研究 | 第51-52页 |
| ·电学性质研究 | 第52-53页 |
| ·基底加温和氧分压对Zr掺杂ZnO薄膜性能的影响 | 第53-58页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·薄膜样品制备 | 第54页 |
| ·结构分析 | 第54-55页 |
| ·表面形貌分析 | 第55-56页 |
| ·光学性能研究 | 第56-57页 |
| ·电学性能研究 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 研究生阶段发表的论文目录 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
