| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 铜粉的制备方法 | 第11-16页 |
| 1.2.1 物理法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 化学法 | 第12-15页 |
| 1.2.3 铜粉制备工艺对比分析 | 第15-16页 |
| 1.3 金属粉末烧结过程的计算模拟 | 第16-18页 |
| 1.4 分子动力学模拟方法 | 第18-21页 |
| 1.4.1 牛顿运动方程 | 第18-19页 |
| 1.4.2 原子间势函数 | 第19-20页 |
| 1.4.3 有限差分法 | 第20页 |
| 1.4.4 分子动力学模拟系综 | 第20页 |
| 1.4.5 分子动力学模拟流程 | 第20-21页 |
| 1.5 论文研究的意义及主要内容 | 第21页 |
| 1.5.1 论文研究的意义 | 第21页 |
| 1.5.2 论文研究的主要内容 | 第21页 |
| 1.6 技术路线图 | 第21-23页 |
| 2 研究方法 | 第23-27页 |
| 2.1 纳米铜粉的实验制备 | 第23-24页 |
| 2.1.1 原材料 | 第23页 |
| 2.1.2 实验方法 | 第23-24页 |
| 2.1.3 纳米铜粉形貌分析 | 第24页 |
| 2.2 纳米铜粉烧结模拟方法 | 第24-27页 |
| 2.2.1 铜粉烧结的分子动力学模拟 | 第24-25页 |
| 2.2.2 分子动力学模拟软件 | 第25-27页 |
| 3 纳米铜粉的调控制备 | 第27-31页 |
| 3.1 铜粉制备的反应机理 | 第27页 |
| 3.2 还原剂对纳米铜粉制备的影响 | 第27-29页 |
| 3.3 保护剂对纳米铜粉制备的影响 | 第29-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 4 纳米铜粉的烧结演化模拟 | 第31-62页 |
| 4.1 纯铜性质的计算与势函数验证 | 第31-33页 |
| 4.2 纳米铜粉的熔化特性 | 第33-34页 |
| 4.3 颗粒数量对纳米铜粉烧结演化的影响 | 第34-38页 |
| 4.4 颗粒尺寸对纳米铜粉烧结演化的影响 | 第38-44页 |
| 4.4.1 不同粒径纳米铜粉在373.15K下的烧结演化 | 第38-39页 |
| 4.4.2 不同粒径纳米铜粉在573.15K下的烧结演化 | 第39-40页 |
| 4.4.3 不同粒径纳米铜粉在773.15K下的烧结演化 | 第40-42页 |
| 4.4.4 不同粒径纳米铜粉在1000K下的烧结演化 | 第42-43页 |
| 4.4.5 小结 | 第43-44页 |
| 4.5 烧结温度对纳米铜粉烧结演化的影响 | 第44-48页 |
| 4.5.1 2nm铜粉在不同温度下的烧结演化 | 第44-45页 |
| 4.5.2 4nm铜粉在不同温度下的烧结演化 | 第45-46页 |
| 4.5.3 8nm铜粉在不同温度下的烧结演化 | 第46-47页 |
| 4.5.4 小结 | 第47-48页 |
| 4.6 烧结时间对纳米铜粉烧结演化的影响 | 第48-61页 |
| 4.6.1 2nm铜粉在不同时长下的烧结演化 | 第48-51页 |
| 4.6.2 4nm铜粉在不同时长下的烧结演化 | 第51-56页 |
| 4.6.3 8nm铜粉在不同时长下的烧结演化 | 第56-61页 |
| 4.7 本章小结 | 第61-62页 |
| 5 纳米铜粉烧结体致密度的理论表征 | 第62-68页 |
| 5.1 致密度的计算方法 | 第62-63页 |
| 5.2 2nm铜粉烧结体的致密度 | 第63-64页 |
| 5.3 4nm铜粉烧结体的致密度 | 第64-66页 |
| 5.4 8nm铜粉烧结体的致密度 | 第66-67页 |
| 5.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 攻读硕士期间取得的学术成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
