| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 太阳能利用概述 | 第14-15页 |
| 1.2.0 光能-热能转换体系 | 第14页 |
| 1.2.1 光能-电能转换体系 | 第14-15页 |
| 1.2.2 光能-化学能转换体系 | 第15页 |
| 1.3 光能-化学能转换体系 | 第15-18页 |
| 1.3.1 自然光合作用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 人工光(电)化学催化 | 第16-18页 |
| 1.4 光(电)催化水氧化 | 第18-24页 |
| 1.4.1 光(电)催化水氧化行为 | 第19-22页 |
| 1.4.2 n-型半导体在光(电)催化水氧化中的应用 | 第22-24页 |
| 1.5 光沉积 | 第24-28页 |
| 1.5.1 光沉积行为 | 第24-25页 |
| 1.5.2 n-型半导体在光沉积中的应用 | 第25-28页 |
| 1.6 n-型金属氧化物半导体的光化学/电化学性能改进 | 第28-32页 |
| 1.6.1 低维有序的形貌调控 | 第28-30页 |
| 1.6.2 金属氧化物材料的电子结构改性 | 第30-32页 |
| 1.7 本论文的选题背景和研究内容 | 第32-35页 |
| 1.7.1 选题背景 | 第32-33页 |
| 1.7.2 本论文研究内容 | 第33-35页 |
| 第二章 实验仪器和方法 | 第35-43页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第35-37页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第35-37页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第37页 |
| 2.2 材料表征 | 第37-38页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第37页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第37-38页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜(SEM) | 第38页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜(TEM) | 第38页 |
| 2.2.5 拉曼光谱(Raman) | 第38页 |
| 2.2.6 电感耦合等离子体(ICP) | 第38页 |
| 2.3 电化学性能测试 | 第38-40页 |
| 2.3.1 三电极体系 | 第38页 |
| 2.3.2 循环伏安(CV) | 第38-39页 |
| 2.3.3 线性扫描极化曲线(LSV) | 第39页 |
| 2.3.4 恒电流测试 | 第39页 |
| 2.3.5 恒电位测试 | 第39页 |
| 2.3.6 电化学阻抗谱测试(EIS) | 第39页 |
| 2.3.7 电化学活性表面积测试 | 第39-40页 |
| 2.4 产物检测 | 第40-43页 |
| 2.4.1 比色分析 | 第40页 |
| 2.4.2 滴定分析 | 第40-43页 |
| 第三章 二氧化钛/氧化锰的光沉积制备、改性与应用 | 第43-59页 |
| 3.1 引言 | 第43-44页 |
| 3.2 TiO_2/Mn_3O_4复合薄膜的光沉积制备与改性 | 第44-46页 |
| 3.2.1 TiO_2纳米管阵列的制备 | 第45页 |
| 3.2.2 TiO_2/Mn_3O_4复合薄膜的光沉积制备 | 第45-46页 |
| 3.3 TiO_2/Mn_3O_4复合薄膜的结构与形貌分析 | 第46-51页 |
| 3.4 TiO_2/Mn_3O_4的光沉积机理分析 | 第51-53页 |
| 3.5 TiO_2/Mn_3O_4的电化学超级电容器性能 | 第53-58页 |
| 3.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第四章 氧化铁/氧化钴的光沉积制备、改性与应用 | 第59-81页 |
| 4.1 引言 | 第59-60页 |
| 4.2 氧化铁/氧化钴的光沉积制备与改性 | 第60-62页 |
| 4.2.1 Fe_2O_3纳米阵列薄膜的制备 | 第61页 |
| 4.2.2 Fe_2O_3/CoO_x复合薄膜的光沉积制备 | 第61页 |
| 4.2.3 Fe_2O_3/CoO_x复合薄膜的改性 | 第61-62页 |
| 4.3 氧化铁/氧化钴复合薄膜的电催化性能 | 第62-78页 |
| 4.4 本章小结 | 第78-81页 |
| 第五章 氧化钛/氧化钴的光沉积制备、改性与应用 | 第81-99页 |
| 5.1 引言 | 第81页 |
| 5.2 氧化钛/氧化钴的光沉积制备与表征 | 第81-83页 |
| 5.2.1 TiO_2纳米管阵列薄膜的制备 | 第82页 |
| 5.2.2 TiO_2/CoO_x复合薄膜的光沉积制备 | 第82-83页 |
| 5.2.3 TiO_2/CoO_x复合薄膜的空气热处理 | 第83页 |
| 5.3 氧化钛/氧化钴的原位改性与电催化析氢性能 | 第83-97页 |
| 5.4 本章小结 | 第97-99页 |
| 第六章 钒酸铋的光解水机理研究 | 第99-111页 |
| 6.1 引言 | 第99-101页 |
| 6.2 多孔BiVO_4薄膜的制备与表征 | 第101-103页 |
| 6.2.1 多孔BiVO_4薄膜的制备 | 第101-102页 |
| 6.2.2 WO_3薄膜的制备 | 第102-103页 |
| 6.3 BiVO_4在不同pH的电解液中的光电化学行为 | 第103-107页 |
| 6.4 BiVO_4的光解水机理 | 第107-108页 |
| 6.5 WO_3在不同pH的电解液中的光电化学行为 | 第108-109页 |
| 6.6 本章小结 | 第109-111页 |
| 第七章 结论与展望 | 第111-115页 |
| 7.1 结论 | 第111-113页 |
| 7.2 对未来工作的建议和展望 | 第113-115页 |
| 参考文献 | 第115-137页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第137-139页 |
| 致谢 | 第139页 |
