基于共振效应的硅基高性能光学器件
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-48页 |
| 1.1 硅基光电子学 | 第13-24页 |
| 1.1.1 光源系统 | 第16-17页 |
| 1.1.2 无源器件系统 | 第17-20页 |
| 1.1.3 光调制器 | 第20-23页 |
| 1.1.4 光电探测器 | 第23页 |
| 1.1.5 能源系统 | 第23-24页 |
| 1.2 硅基微腔结构 | 第24-28页 |
| 1.2.1 光学回音壁模式 | 第25-26页 |
| 1.2.2 光学微球腔的发展 | 第26-28页 |
| 1.3 硅基波导十字交叉结构 | 第28-32页 |
| 1.4 亚波长减反微结构 | 第32-36页 |
| 1.5 本文研究思路和论文结构 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-48页 |
| 第二章 片上硅基球形微腔的制备和性能研究 | 第48-70页 |
| 2.1 背景介绍 | 第48-51页 |
| 2.2 片上硅基球形微腔的制备 | 第51-60页 |
| 2.2.1 Bosch刻蚀工艺原理 | 第51-53页 |
| 2.2.2 硅基微圆柱的制备 | 第53页 |
| 2.2.3 激光照射设备的搭建和微半球的制备 | 第53-55页 |
| 2.2.4 蘑菇型硅基微结构的制备 | 第55-57页 |
| 2.2.5 硅基微球腔的制备和表面形貌的表征 | 第57-60页 |
| 2.3 硅基球形微腔的性能研究 | 第60-67页 |
| 2.4 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第三章 硅基波导十字交叉结构的设计和加工 | 第70-96页 |
| 3.1 背景介绍 | 第70-74页 |
| 3.2 硅基波导十字交叉结构设计 | 第74-84页 |
| 3.3 硅基波导十字交叉结构的加工和测试 | 第84-92页 |
| 3.4 本章小结 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-96页 |
| 第四章 硅基亚波长微结构减反膜的设计 | 第96-120页 |
| 4.1 背景介绍 | 第96-102页 |
| 4.2 硅基亚波长减反微结构的设计 | 第102-107页 |
| 4.3 硅基亚波长减反微结构的性能研究 | 第107-112页 |
| 4.4 本章小结 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-120页 |
| 第五章 结论和展望 | 第120-122页 |
| 博士期间发表文章列表 | 第122-123页 |
| 致谢 | 第123-125页 |
