| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 NO_x的来源及危害 | 第10-11页 |
| 1.2.1 NO_x的来源 | 第10-11页 |
| 1.2.2 NO_x的危害 | 第11页 |
| 1.3 NO_x的消除 | 第11-18页 |
| 1.3.1 NO_x的消除方法 | 第11-13页 |
| 1.3.2 消除NO_x的催化剂 | 第13-18页 |
| 1.4 论文的选题依据 | 第18-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-24页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第19-20页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第19页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第19-20页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 Cu_mNi_(0.1-m)TiO_x催化剂的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.2 Cu_mCe_(0.1-m)TiO_x催化剂的制备 | 第21页 |
| 2.3 催化剂的表征 | 第21-23页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第21页 |
| 2.3.2 N_2吸附-脱附等温线（BET）分析 | 第21页 |
| 2.3.3 NH_3程序升温脱附（NH_3-TPD）分析 | 第21-22页 |
| 2.3.4 H_2-程序升温还原（H_2-TPR）分析 | 第22页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第22页 |
| 2.3.6 差热分析 | 第22页 |
| 2.3.7 傅立叶变换红外光谱（DRIFT）分析 | 第22-23页 |
| 2.4 催化剂的性能测试 | 第23-24页 |
| 第3章 Cu_mNi_(0.1-m)TiO_x催化剂脱硝性能的研究 | 第24-40页 |
| 3.1 催化剂性能的研究 | 第24-28页 |
| 3.1.1 催化剂的活性 | 第24-25页 |
| 3.1.2 催化剂的抗水抗硫性能 | 第25-26页 |
| 3.1.3 空速对催化剂活性的影响 | 第26-28页 |
| 3.2 催化剂的表征 | 第28-39页 |
| 3.2.1 XRD表征和BET比表面积 | 第28页 |
| 3.2.2 H_2-程序升温还原（H_2-TPR）分析 | 第28-29页 |
| 3.2.3 单独的NO氧化和NH_3氧化 | 第29-30页 |
| 3.2.4 NH_3程序升温脱附（NH_3-TPD）分析 | 第30-32页 |
| 3.2.5 XPS分析 | 第32-34页 |
| 3.2.6 DRIFTS研究 | 第34-38页 |
| 3.2.7 Cu的取代对催化剂活性促进的原因 | 第38-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 Cu_mCe_(0.1-m)TiO_x催化剂脱硝性能的研究 | 第40-63页 |
| 4.1 催化剂性能的研究 | 第40-45页 |
| 4.1.1 催化剂的活性 | 第40-43页 |
| 4.1.2 催化剂的抗水抗硫性能 | 第43-44页 |
| 4.1.3 空速对催化剂活性的影响 | 第44-45页 |
| 4.2 催化剂的表征 | 第45-62页 |
| 4.2.1 XRD表征和BET比表面积 | 第45-48页 |
| 4.2.2 拉曼谱图分析 | 第48-49页 |
| 4.2.3 H_2-程序升温还原（H_2-TPR）分析 | 第49-50页 |
| 4.2.4 单独的NO氧化和NH_3氧化 | 第50-52页 |
| 4.2.5 NH_3程序升温脱附（NH_3-TPD）分析 | 第52-53页 |
| 4.2.6 XPS分析 | 第53-57页 |
| 4.2.7 DRIFTS研究 | 第57-60页 |
| 4.2.8 Cu的取代对催化剂活性促进的原因 | 第60-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第76页 |
