铝基超疏水表面制备方法研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| ·选题背景和研究意义 | 第9-10页 |
| ·现有的超疏水表面制备技术 | 第10-14页 |
| ·超疏水表面技术中存在的问题及其发展趋势 | 第14-16页 |
| ·超疏水表面技术存在的问题 | 第14-15页 |
| ·超疏水表面的发展趋势 | 第15-16页 |
| ·本论文的研究思路及主要工作 | 第16-18页 |
| 2 超疏水表面相关理论 | 第18-28页 |
| ·静态接触角 | 第18-21页 |
| ·理想状体下的接触角方程——Young氏方程 | 第18-19页 |
| ·水滴在粗糙固体表面接触的Wenzel模式 | 第19-20页 |
| ·水滴在粗糙固体表面接触的Cassie模式 | 第20页 |
| ·Wenzel模式和Cassie模式之间的关系 | 第20-21页 |
| ·接触角滞后 | 第21-23页 |
| ·水滴在固体表面上的滚动角 | 第23-24页 |
| ·单重柱状表面和双重柱状表面润湿性比较 | 第24-28页 |
| ·柱状表面模型构建 | 第24-26页 |
| ·单双重柱状表面疏水性比较 | 第26-28页 |
| 3 铝基超疏水表面的制备 | 第28-44页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·外加电场下诱导晶界位错优先蚀除机理 | 第28-29页 |
| ·氟硅烷修饰机理 | 第29-30页 |
| ·铝基超疏水表面的制备和表征 | 第30-32页 |
| ·实验材料与装置 | 第30-31页 |
| ·超疏水铝表面基底的制备步骤 | 第31-32页 |
| ·氟硅烷修饰 | 第32页 |
| ·超疏水表面的表征 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-42页 |
| ·电解液种类对加工表面的影响 | 第32-34页 |
| ·电化学加工条件对接触角的影响 | 第34-35页 |
| ·去除质量对表面形貌及超疏水性的影响 | 第35-38页 |
| ·固定去除量下去除速率对超疏水表面的影响 | 第38-39页 |
| ·铝表面微纳米双重结构分析 | 第39-41页 |
| ·氟化处理后铝表面超疏水性能分析 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 4 大面积超疏水表面制备研究 | 第44-52页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验方案设计 | 第44-45页 |
| ·工件旋转移动加工 | 第45页 |
| ·阴极平行移动加工 | 第45页 |
| ·大面积铝基超疏水表面的制备实验 | 第45-49页 |
| ·实验条件 | 第45-46页 |
| ·大面积超疏水表面的基础实验 | 第46-48页 |
| ·移动阴极制备大面积超疏水表面 | 第48-49页 |
| ·结果与分析 | 第49-51页 |
| ·大面积铝基超疏水表面的形貌和超疏水性分析 | 第49-50页 |
| ·移动阴极加工过程分析 | 第50页 |
| ·铝板表面黑斑分析 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 5 结论和展望 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
