基于纳光子结构的完美光吸收研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 基于纳光子结构完美光吸收研究概况 | 第11-12页 |
| 1.3 论文的主要内容和章节安排 | 第12-13页 |
| 第二章 金属和半导体的光学特性分析 | 第13-24页 |
| 2.1 半导体纳米阵列的光学特性分析 | 第13-15页 |
| 2.2 金属的光学特性分析 | 第15-16页 |
| 2.3 慢光效应 | 第16-20页 |
| 2.4 漏模共振 | 第20-21页 |
| 2.5 纳米结构阵列材料对光吸收的影响 | 第21-24页 |
| 第三章 纳米结构阵列的完美光吸收研究 | 第24-40页 |
| 3.1 纳米四棱台阵列的光吸收分析 | 第24-29页 |
| 3.2 纳米四棱锥阵列的光吸收分析 | 第29-33页 |
| 3.3 周期性纳米多层圆筒阵列 | 第33-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第四章 纳光子结构样品的制备及加工 | 第40-49页 |
| 4.1 聚焦离子束设备简介 | 第40-42页 |
| 4.1.1 离子源 | 第40-41页 |
| 4.1.2 离子腔 | 第41-42页 |
| 4.1.3 工作腔 | 第42页 |
| 4.1.4 真空与气体释放系统 | 第42页 |
| 4.1.5 用户界面 | 第42页 |
| 4.2 聚焦离子束工作原理 | 第42-43页 |
| 4.3 聚焦离子束成像、铣削、沉积 | 第43-45页 |
| 4.3.1 聚焦离子束成像 | 第43-44页 |
| 4.3.2 聚焦离子束铣削 | 第44-45页 |
| 4.3.3 聚焦离子束沉积 | 第45页 |
| 4.4 样品加工 | 第45-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 试验验证样品的光吸收率 | 第49-60页 |
| 5.1 光纤光谱仪测定样品吸收光谱 | 第49-54页 |
| 5.1.1 实验仪器的搭建 | 第49-51页 |
| 5.1.2 实验操作 | 第51-53页 |
| 5.1.3 实验结果及分析 | 第53-54页 |
| 5.2 近场扫描光学显微镜表征光强度分布 | 第54-59页 |
| 5.2.1 近场扫描光学显微镜的工作介绍 | 第55-57页 |
| 5.2.2 近场扫描光学显微镜的实验结果 | 第57-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第六章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 6.1 总结 | 第60-61页 |
| 6.2 展望 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士期间取得的学术成果 | 第67-68页 |
