| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-13页 |
| ·质子束刻写 | 第10-11页 |
| ·PBW简介 | 第10页 |
| ·质子束和物质的相互作用特性 | 第10-11页 |
| ·PBW应用前景 | 第11-12页 |
| ·PBW研究现状及发展趋势 | 第12-13页 |
| 第2章 实验材料及模拟计算 | 第13-33页 |
| ·SRIM程序简介 | 第13页 |
| ·抗蚀剂材料及模拟计算 | 第13-24页 |
| ·PMMA | 第14-17页 |
| ·SU-8 | 第17-19页 |
| ·HSQ | 第19-22页 |
| ·PDMS | 第22-24页 |
| ·衬底材料 | 第24-31页 |
| ·硅衬底 | 第25-27页 |
| ·其它衬底材料 | 第27-31页 |
| ·实验选用材料 | 第31-33页 |
| ·AR-P6510.12正型光刻胶 | 第32页 |
| ·AR-N4400.10负型光刻胶 | 第32-33页 |
| 第3章 PBW实验仪器平台 | 第33-47页 |
| ·抗蚀剂制样平台 | 第33-35页 |
| ·真空旋转涂层匀胶机 | 第33-34页 |
| ·热板 | 第34-35页 |
| ·曝光刻写平台 | 第35-40页 |
| ·SPM系统 | 第35-38页 |
| ·PBW装置 | 第38-40页 |
| ·扫描控制软件 | 第40页 |
| ·样品观测平台 | 第40-43页 |
| ·光学显微镜 | 第40-41页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第41-43页 |
| ·电镀平台 | 第43-47页 |
| ·装置及镀液 | 第43-45页 |
| ·电镀测试 | 第45-47页 |
| 第4章 PBW实验流程 | 第47-57页 |
| ·胶层制备流程 | 第47-48页 |
| ·硅片衬底清洗 | 第47页 |
| ·胶体旋转涂覆 | 第47页 |
| ·烘烤 | 第47-48页 |
| ·环境光影响测试 | 第48-49页 |
| ·胶层厚度测试 | 第49-53页 |
| ·AR-P6510.12厚度测试 | 第49-51页 |
| ·AR-N4400-10厚度测试 | 第51-53页 |
| ·胶层曝光及显影 | 第53-57页 |
| ·抗蚀剂曝光辐照 | 第53页 |
| ·曝光抗蚀剂显影 | 第53-57页 |
| 第5章 微结构刻写 | 第57-65页 |
| ·剂量控制测试 | 第57-59页 |
| ·正型抗蚀剂微结构 | 第59-61页 |
| ·“海宝”轮廓 | 第59页 |
| ·双矩形微结构 | 第59-60页 |
| ·微型圆孔 | 第60-61页 |
| ·负型抗蚀剂微结构 | 第61-64页 |
| ·图形转换 | 第64-65页 |
| 第6章 总结与展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 攻读学位期间获得与学位论文相关的科研成果目录 | 第70-71页 |
| 附录A Hydrogen in PMMA | 第71-74页 |
| 附录B Helium in PMMA | 第74-77页 |
| 附录C Hydrogen in SU-8 | 第77-80页 |
| 附录D Hydrogen in HSQ | 第80-83页 |
| 附录E Hydrogen in PDMS | 第83-86页 |
| 附录F Hydrogen in Silicon | 第86-89页 |
| 附录G Hydrogen in SiO_2 | 第89-92页 |
| 附录H Hydrogen in Stainless Steel | 第92-95页 |
| 附录I Hydrogen in Glass | 第95-98页 |
| 附录J 4LB-Ⅰ型多功能核探针数据获取系统研制 | 第98-105页 |
| 1 项目简介 | 第98-100页 |
| 2 工作简介 | 第100-105页 |
| ·探测器安装及干扰信号排除 | 第100-102页 |
| ·新PIXE靶室安装及真空保护设计 | 第102-104页 |
| ·系统调试探测 | 第104-105页 |